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蘇州天馬用的蝕刻液剝離液費用

來源: 發(fā)布時間:2025-05-01

    形成帶有沉淀物的固液混合物,打開一級過濾罐進料管路上的電磁閥18,固液混合物進入一級過濾罐16的過濾筒中,先由一級過濾罐16的過濾筒過濾得到一級線性酚醛樹脂,濾液由提升泵6送往攪拌釜的循環(huán)料口7,往復(fù)3次數(shù)后,一級線性酚醛樹脂回收完成,關(guān)閉一級過濾罐進料管路上的電磁閥18,利用提升泵6將一級過濾罐16中濾液抽取到攪拌釜10內(nèi)備用;2、向攪拌釜10中輸入酸性溶液,與前述濾液充分攪拌混合再次析出沉淀物,即二級線性酚醛樹脂,利用ph計檢測溶液ph值,當(dāng)達到5-7范圍內(nèi)即可,打開二級過濾罐13進料管路上的電磁閥17,帶有沉淀物的混合液進入二級過濾罐13中,由其中的過濾筒過濾得到二級線性酚醛樹脂,廢液二級過濾罐底部的廢液出口20流出,送往剝離成分處理系統(tǒng)。上述過濾得到的一級線性酚醛樹脂可用于光刻膠產(chǎn)品的原料,而二級線性酚醛樹脂可用于其他場合。哪家的剝離液性價比比較高?蘇州天馬用的蝕刻液剝離液費用

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    當(dāng)前級別腔室101對應(yīng)的過濾器30被薄膜碎屑阻塞后,通過閥門開關(guān)60關(guān)閉當(dāng)前級別腔室101對應(yīng)的存儲箱20與過濾器30之間的液體流通,從而可以在閥門開關(guān)60關(guān)閉后取下被阻塞的過濾器30進行清理并不會導(dǎo)致之后的下一級腔室102的剝離進程無法繼續(xù)。其中,腔室10用于按照處于剝離制程的玻璃基板的傳送方向逐級向玻璃基板分別提供剝離液;與多個腔室10分別對應(yīng)連接的多個存儲箱20,各級腔室10分別通過管道與相應(yīng)的存儲箱20連接,存儲箱20用于收集和存儲來自當(dāng)前級腔室101的經(jīng)歷剝離制程的剝離液;過濾器30用于過濾來自當(dāng)前級腔室101的存儲箱20的剝離液,并且過濾器30還可以通過管道與下一級腔室102連接,從而過濾器30可以將過濾后的剝離液輸送給下一級腔室102。各腔室10設(shè)計為適合進行剝離制程,用于向制程中的玻璃基板供給剝離液,具體結(jié)構(gòu)可參考現(xiàn)有設(shè)計在此不再贅述。各級腔室10分別于相應(yīng)的存儲箱20通過管道連接,腔室10中經(jīng)歷剝離制程后的剝離液可以經(jīng)管道輸送至存儲箱20中,由存儲箱20來收集和存儲。各級腔室10的存儲箱20分別與相應(yīng)的過濾器30通過管道連接,經(jīng)存儲箱20處理后的剝離液再經(jīng)相應(yīng)的過濾器30過濾后才經(jīng)管道輸送至下一級腔室102。 蘇州天馬用的蝕刻液剝離液費用ITO剝離液的配方是什么?

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    使用當(dāng)前級腔室相應(yīng)的過濾器過濾來自當(dāng)前級腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級腔室;若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān);取出被阻塞的所述過濾器。在一些實施例中,所述若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān)包括:若所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器,則關(guān)閉連接被阻塞的所述子過濾器的管道上的閥門開關(guān)。本申請實施例還提供一種剝離液機臺,包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應(yīng)連接一存儲箱;過濾器,所述過濾器的一端設(shè)置通過管道與當(dāng)前級腔室對應(yīng)的存儲箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級腔室連接;其中,至少在所述管道或所述第二管道上設(shè)置有閥門開關(guān)開關(guān)。通過閥門開關(guān)控制連接每一級腔室的過濾器相互獨立,從而在過濾器被阻塞時通過閥門開關(guān)將被堵塞的過濾器取下并不影響整體的剝離進程,提高生產(chǎn)效率。附圖說明為了更清楚地說明本申請實施例中的技術(shù)方案,下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖**是本申請的一些實施例,對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來講。

    本發(fā)明涉及剝離液技術(shù)領(lǐng)域:,更具體的說是涉及一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。背景技術(shù)::電子行業(yè)飛速發(fā)展,光刻膠應(yīng)用也越來越。在半導(dǎo)體元器件制造過程中,經(jīng)過涂敷-顯影-蝕刻過程,在底層金屬材料上蝕刻出所需線條之后,必須在除去殘余光刻膠的同時不能損傷任何基材,才能再進行下道工序。因此,光刻膠的剝離質(zhì)量也有直接影響著產(chǎn)品的質(zhì)量。但是傳統(tǒng)光刻膠剝離液雖然能剝離絕大部分光阻,但對于高世代面板(高世代面板是代指大尺寸的液晶面板),傳統(tǒng)剝離液親水性不夠,水置換能力較差,容易造成面板邊緣光刻膠殘留。技術(shù)實現(xiàn)要素:本發(fā)明的目的是提供一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液。為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:本申請公開了一種高世代面板銅制程光刻膠剝離液,包括以下質(zhì)量組分:酰胺:50-60%;醇醚:35-45%;環(huán)胺與鏈胺:3-7%;緩蝕劑:%%;潤濕劑:%%。的技術(shù)方案中,所述的酰胺為n-甲基甲酰胺、n-甲基乙酰胺、n,n-二甲基甲酰胺中的任意一種或多種。的技術(shù)方案中,所述的醇醚為二乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的任意一種或多種。的技術(shù)方案中。剝離液中加入特有添加劑可有效保護對應(yīng)金屬;

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剝離液是一種通用濕電子化學(xué)品,主要用于去除金屬電鍍或者蝕刻加工完成后的光刻膠和殘留物質(zhì),同時防止對襯底層造成破壞。剝離液是集成電路、分立器件、顯示面板、太陽能電池等生產(chǎn)濕法工藝制造的關(guān)鍵性電子化工材料,下游應(yīng)用領(lǐng)域,但整體應(yīng)用需求較低,因此市場規(guī)模偏小。剝離液應(yīng)用在太陽能電池中,對于剝離液的潔凈度要求較低,需達到G1等級,下游客戶主要要天合、韓華、通威等;應(yīng)用到面板中,通常要達到G2、G3等級,且高世代線對于剝離液的要求要高于低世代線,下游客戶有京東方、中星光電;在半導(dǎo)體中的應(yīng)用可分等級,在8英寸及以下的晶圓制造中,對于剝離液的要求達到G3、G4水平,大硅片、12英寸晶元等產(chǎn)品要達到G5水平。剝離液蝕刻后如何判斷好壞 ?嘉興配方剝離液銷售電話

剝離液可以用在什么地方;蘇州天馬用的蝕刻液剝離液費用

    光刻作為IC制造的關(guān)鍵一環(huán)常常被人重視,但是光刻膠都是作為層被去掉的,如何快速、干凈的去除工藝后的光刻膠是一個經(jīng)常被疏忽的問題,但是很重要,直接影響了產(chǎn)品質(zhì)量。如何快速有效的去除光刻膠。筆者**近就碰到一些去膠的問題,比如正膠和負膠去除需要的工藝有差別。去膠工藝還和光刻膠受過什么樣的工藝處理有關(guān),比如ICPRIE之后的光刻膠、還有濕法腐蝕后的光刻膠。市面上針對光刻膠去除的特殊配方的去膠液有很多種,但需要根據(jù)自身產(chǎn)品特性加以選擇。在做砷化鎵去除光阻的案例,砷化鎵是一種化合物半導(dǎo)體材料,分子式GaAs。立方晶系閃鋅礦結(jié)構(gòu),即由As和Ga兩種原子各自組成面心立方晶格套構(gòu)而成的復(fù)式晶格,其晶格常數(shù)是。室溫下禁帶寬度,是直接帶隙半導(dǎo)體,熔點1238℃,質(zhì)量密度,電容率。在其中摻入Ⅵ族元素Te、Se、S等或Ⅳ族元素Si,可獲得N型半導(dǎo)體,摻入Ⅱ族元素Be、Zn等可制得P型半導(dǎo)體,摻入Cr或提高純度可制成電阻率高達107~108Ω·cm的半絕緣材料。 蘇州天馬用的蝕刻液剝離液費用