從90年代末至今，近場(chǎng)微波成像已經(jīng)引起了學(xué)者們的濃厚興趣，但由于常規(guī)目標(biāo)散射近場(chǎng)的復(fù)雜性，致使近場(chǎng)微波成像遠(yuǎn)遠(yuǎn)滯后于遠(yuǎn)場(chǎng)成像。近場(chǎng)微波成像中，著眼于潛在的應(yīng)用，目標(biāo)函數(shù)既可以是理想導(dǎo)體目標(biāo)的輪廓函數(shù)，也可以是目標(biāo)介電常數(shù)的分布函數(shù)。從照射天線與成像目標(biāo)的相對(duì)運(yùn)動(dòng)方式來看，近場(chǎng)微波成像有兩種模式：即直線掃描模式和轉(zhuǎn)臺(tái)模式，研究方法可分為電磁逆散射法和球背向投影法（SphericalBackProjection，簡(jiǎn)寫為SBP）。其中電磁逆散射法散射機(jī)理清晰，但數(shù)學(xué)公式復(fù)雜且有很大的局限性，因而，實(shí)際中使用較少；而球背向投影法在實(shí)際中使用較多。利用球背向投影法在直線掃描模式和轉(zhuǎn)臺(tái)模式情況下的目標(biāo)函數(shù)解析公式已經(jīng)給出。和近場(chǎng)類似，遠(yuǎn)場(chǎng)的起始也沒有統(tǒng)一的定義。福建電磁波近場(chǎng)輻射系統(tǒng)價(jià)格

天線口徑場(chǎng)分布診斷是通過測(cè)量天線近區(qū)場(chǎng)的分布逆推出天線口徑場(chǎng)分布，從而判斷出口徑場(chǎng)畸變處所對(duì)應(yīng)的輻射單元，這就是天線口徑分布診斷的基本原理。該方法對(duì)具有一維圓對(duì)稱天線口徑分布的分析是可靠的，尤其對(duì)相控陣天線的分析與測(cè)量已有了充分的可信度。天線方向圖副瓣電平在-28～-35dB之間的天線稱為低副瓣天線；副瓣電平小于-40dB的天線稱為很低副瓣天線。對(duì)它們的測(cè)量要用到“零探頭”技術(shù)，據(jù)文獻(xiàn)報(bào)導(dǎo)，副瓣電平在-40dB以上時(shí)，測(cè)量精度為±3dB，副瓣電平為-55dB時(shí)，測(cè)量精度為±5dB。江蘇汽車電子近場(chǎng)輻射測(cè)試方法場(chǎng)的強(qiáng)度和天線的距離成反比(1/ r3)。

眾所周知，在離開被測(cè)目標(biāo)3λ～5λ（λ為工作波長(zhǎng)）距離上測(cè)量該區(qū)域電磁場(chǎng)的技術(shù)稱為技術(shù)。如果被測(cè)目標(biāo)是器，則稱為輻射近場(chǎng)測(cè)量；若被測(cè)目標(biāo)是體，則稱為散射近場(chǎng)測(cè)量；對(duì)測(cè)得散射體的散射近場(chǎng)信息進(jìn)行反演或逆推就能得到目標(biāo)的像函數(shù)，這就是目標(biāo)近場(chǎng)成像。但是，截止目前為止，關(guān)于輻射、散射近場(chǎng)測(cè)量以及溶為一體的綜述性文章還未見到公開的報(bào)導(dǎo)，這對(duì)從事這方面研究的學(xué)者無疑是一種遺憾。為使同行們能全部地了解該技術(shù)的發(fā)展動(dòng)態(tài)，該文概述了近幾十年來關(guān)于輻射、散射近場(chǎng)測(cè)量及近場(chǎng)成像技術(shù)前人所做的工作及其新進(jìn)展，并指出了未來研究的主要方向。

輻射近場(chǎng)測(cè)量的研究起始于50年代，70年代中期處于推廣應(yīng)用階段（商品化階段）。目前，分布在世界各地的近場(chǎng)測(cè)量系統(tǒng)已有100多套。該技術(shù)的基本理論已基本成熟，這種測(cè)量方法的電參數(shù)測(cè)量精度比常規(guī)遠(yuǎn)場(chǎng)測(cè)量方法的測(cè)量精度要高得多，而且可全天候工作，并具有較高的保密性，因此，在民用中都顯示出了它獨(dú)特的優(yōu)越性。輻射近場(chǎng)測(cè)量研究的主要成果，幾十年來，輻射近場(chǎng)測(cè)量的研究在以下4個(gè)方面取得了突破性的進(jìn)展：常規(guī)天線電參數(shù)的測(cè)量，天線近場(chǎng)測(cè)量可以給出天線各個(gè)截面的方向圖以及立體方向圖，可以分析出方向圖上的所有電參數(shù)（波束寬度、副瓣電平、零值深度、零深位置等）和天線的極化參數(shù)（軸比、傾角和旋向）以及天線的增益。在數(shù)學(xué)上的電場(chǎng)強(qiáng)度，可以被看作是兩個(gè)部分的總和。

電磁兼容性（ElectromagneticCompatibility，簡(jiǎn)稱EMC）是指設(shè)備或系統(tǒng)在其電磁環(huán)境中符合要求運(yùn)行并不對(duì)其環(huán)境中的任何設(shè)備產(chǎn)生無法忍受的電磁干擾的能力。因此，EMC包括兩個(gè)方面的要求：一方面是指設(shè)備在正常運(yùn)行過程中對(duì)所在環(huán)境產(chǎn)生的電磁干擾不能超過一定的限值，即電磁干擾(ElectromagneticInterference簡(jiǎn)稱EMI)；另一方面是指器件對(duì)所在環(huán)境中存在的電磁干擾具有一定程度的抗擾度，即電磁敏感性（ElectroMagneticSusceptibility，簡(jiǎn)稱EMS）。電磁干擾(ElectromagneticInterference簡(jiǎn)稱EMI)又分為傳導(dǎo)干擾和輻射干擾兩種。傳導(dǎo)干擾是指通過導(dǎo)電介質(zhì)把一個(gè)電網(wǎng)絡(luò)上的信號(hào)耦合(干擾)到另一個(gè)電網(wǎng)絡(luò)。輻射干擾是指干擾源通過空間把其信號(hào)耦合(干擾)到另一個(gè)電網(wǎng)絡(luò)，在高速PCB及系統(tǒng)設(shè)計(jì)中，高頻信號(hào)線、集成電路的引腳、各類接插件等都可能成為具有天線特性的輻射干擾源，能發(fā)射電磁波并影響其他系統(tǒng)或本系統(tǒng)內(nèi)其他子系統(tǒng)的正常工作。根據(jù)天線的種類，一種場(chǎng)會(huì)成為主導(dǎo)。江蘇汽車電子近場(chǎng)輻射測(cè)試方法

按照與天線距離的遠(yuǎn)近，又把輻射場(chǎng)區(qū)分為輻射近場(chǎng)區(qū)和輻射遠(yuǎn)場(chǎng)區(qū)。福建電磁波近場(chǎng)輻射系統(tǒng)價(jià)格

傳統(tǒng)的EMI輻射測(cè)試往往借助EMI接收機(jī)，在專業(yè)實(shí)驗(yàn)室的暗室里進(jìn)行，這固然可以對(duì)產(chǎn)品的整體EMI輻射做嚴(yán)格的測(cè)試，但往往測(cè)試周期長(zhǎng)、費(fèi)用較高，加之遠(yuǎn)場(chǎng)測(cè)試只能測(cè)出結(jié)果，而不能給出具體輻射的位置，所以給產(chǎn)品的設(shè)計(jì)和改善帶來不小的麻煩。隨著測(cè)試測(cè)量?jī)x器的發(fā)展，近幾年，近場(chǎng)探頭和頻譜分析儀的組合個(gè)EMI輻射的測(cè)試定位帶來了新的方向。為采用一個(gè)近場(chǎng)探頭和實(shí)時(shí)頻譜分析儀對(duì)一個(gè)電路進(jìn)行輻射源的查找，我們可以很清楚的觀測(cè)到在近場(chǎng)探頭附件有四個(gè)主要頻率的輻射，這對(duì)于硬件工程師進(jìn)行設(shè)計(jì)的改善是具有極大幫助的。福建電磁波近場(chǎng)輻射系統(tǒng)價(jià)格

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