在芯片這一高科技產(chǎn)品的復(fù)雜生產(chǎn)流程里，眾多環(huán)節(jié)對(duì)溫濕度的波動(dòng)展現(xiàn)出了近乎苛刻的精密度要求。光刻過(guò)程中，利用高精度的光刻設(shè)備，將預(yù)先設(shè)計(jì)好的復(fù)雜電路圖案轉(zhuǎn)移至硅片表面。溫度的穩(wěn)定性起著決定性作用，哪怕有零點(diǎn)幾攝氏度的微小波動(dòng)，都會(huì)使光刻膠內(nèi)部的化學(xué)反應(yīng)速率產(chǎn)生偏差。光刻膠作為一種對(duì)光敏感的高分子材料，其反應(yīng)速率的改變將直接作用于光刻成像效果，致使圖案邊緣模糊、線條粗細(xì)不均，進(jìn)而讓芯片上的線路出現(xiàn)偏差，甚至引發(fā)短路故障，讓前期投入的大量人力、物力和時(shí)間付諸東流。與此同時(shí)，濕度因素同樣不可小覷。光刻車間若濕度偏高，水汽極易滲透至光刻膠內(nèi)部，使其含水量上升，感光度隨之降低，如同給精密的 “光刻鏡頭” 蒙上一層霧靄，嚴(yán)重影響光刻精度，導(dǎo)致芯片良品率大打折扣，大幅增加生產(chǎn)成本。溫度傳感器的精度能達(dá)到±0.005℃以內(nèi)，濕度傳感器精度達(dá)到±1% RH 以內(nèi)，能夠感知環(huán)境參數(shù)的變化。光學(xué)恒溫恒濕控制

電子萬(wàn)能試驗(yàn)機(jī)，作為材料力學(xué)性能測(cè)試設(shè)備，在金屬材料研發(fā)、塑料制品質(zhì)量檢測(cè)等眾多領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。它能夠開展材料拉伸、壓縮、彎曲等力學(xué)性能測(cè)試，為產(chǎn)品質(zhì)量把控與材料特性研究提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)支撐。然而，環(huán)境溫濕度的波動(dòng)對(duì)其影響極大。溫度波動(dòng)時(shí)，試驗(yàn)機(jī)力傳感器的精度首先受到?jīng)_擊，測(cè)量的力值出現(xiàn)偏差，同時(shí)還會(huì)改變材料自身的力學(xué)性能，例如金屬在高溫下屈服強(qiáng)度降低，導(dǎo)致測(cè)試結(jié)果無(wú)法真實(shí)反映材料特性。濕度波動(dòng)時(shí)，試驗(yàn)機(jī)的夾具、傳動(dòng)部件極易生銹腐蝕，致使對(duì)試樣的夾持穩(wěn)定性大打折扣，加載均勻性也難以保證，進(jìn)一步降低測(cè)試精度。光學(xué)恒溫恒濕控制精密環(huán)境控制設(shè)備依托自主研發(fā)的高精密控溫技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了 0.1% 的超高輸出精度。

質(zhì)譜儀在半導(dǎo)體和電子芯片制造中承擔(dān)著對(duì)材料成分、雜質(zhì)含量等進(jìn)行高精度分析的重任。其工作原理基于對(duì)離子的精確檢測(cè)與分析，而環(huán)境中的微小干擾都可能影響離子的產(chǎn)生、傳輸與檢測(cè)過(guò)程。例如，空氣中的塵埃顆?？赡芪皆陔x子源或檢測(cè)器表面，導(dǎo)致檢測(cè)信號(hào)失真；溫濕度的波動(dòng)可能改變儀器內(nèi)部電場(chǎng)、磁場(chǎng)的分布，影響離子的飛行軌跡與檢測(cè)精度。精密環(huán)控柜通過(guò)高效的空氣過(guò)濾系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)超高水準(zhǔn)的潔凈度控制，確保質(zhì)譜儀工作環(huán)境無(wú)塵、無(wú)雜質(zhì)。同時(shí)，憑借高超的溫濕度控制能力，將溫度波動(dòng)控制在極小范圍，維持濕度穩(wěn)定，為質(zhì)譜儀提供穩(wěn)定的工作環(huán)境，保證其對(duì)半導(dǎo)體材料的分析結(jié)果準(zhǔn)確可靠。在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)不斷追求更高集成度、更小芯片尺寸的發(fā)展趨勢(shì)下，精密環(huán)控柜的環(huán)境保障作用愈發(fā)關(guān)鍵，助力質(zhì)譜儀為半導(dǎo)體材料研發(fā)、芯片制造工藝優(yōu)化等提供有力的數(shù)據(jù)支撐，推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的持續(xù)創(chuàng)新與發(fā)展。

原子力顯微鏡，堪稱納米尺度下微觀世界探索的一把利刃，在材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)等前沿領(lǐng)域發(fā)揮著無(wú)可替代的重要作用。它能夠?qū)ξ⒂^形貌進(jìn)行觀測(cè)，并細(xì)致地測(cè)量力學(xué)性能，為科研工作者打開了通往微觀世界的大門。然而，這一精密儀器對(duì)環(huán)境條件極為敏感。即便是極其微小的溫度波動(dòng)，哪怕只有零點(diǎn)幾攝氏度的變化，都會(huì)對(duì)其關(guān)鍵部件 —— 微懸臂產(chǎn)生影響。微懸臂會(huì)因熱脹冷縮效應(yīng)，改變自身的共振頻率與彈性系數(shù)，使得測(cè)量力與位移的精度大幅下降，難以探測(cè)樣品表面的原子級(jí)細(xì)微起伏。在濕度方面，高濕度環(huán)境同樣是個(gè)棘手的難題。此時(shí)，水汽極易在針尖與樣品之間悄然凝結(jié)，額外增加的毛細(xì)作用力，會(huì)嚴(yán)重干擾測(cè)量數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。不僅如此，水汽長(zhǎng)期作用還可能腐蝕微懸臂，極大地縮短儀器的使用壽命，給科研工作帶來(lái)諸多阻礙。設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定性高，可連續(xù)穩(wěn)定工作時(shí)間大于144h。

超高精度溫度控制是精密環(huán)控柜的一大突出亮點(diǎn)。其自主研發(fā)的高精密控溫技術(shù)，使得控制輸出精度達(dá)到驚人的 0.1% ，這意味著對(duì)溫度的調(diào)控能夠精細(xì)到極小的范圍。設(shè)備內(nèi)部溫度穩(wěn)定性在關(guān)鍵區(qū)域可達(dá) +/-2mK (靜態(tài)) ，無(wú)論外界環(huán)境如何變化，都能保證關(guān)鍵部位的溫度處于極其穩(wěn)定的狀態(tài)。內(nèi)部溫度規(guī)格可在 22.0°C (可調(diào)) ，滿足不同用戶對(duì)溫度的個(gè)性化需求。而且溫度水平均勻性小于 16mK/m ，確保柜內(nèi)各個(gè)角落的溫度幾乎一致，避免因溫度差異導(dǎo)致的實(shí)驗(yàn)誤差或產(chǎn)品質(zhì)量問(wèn)題。再加上設(shè)備內(nèi)部濕度穩(wěn)定性可達(dá) ±0.5%@8h ，以及壓力穩(wěn)定性可達(dá) +/-3Pa ，連續(xù)穩(wěn)定工作時(shí)間大于 144h ，為對(duì)溫濕度、壓力要求苛刻的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)提供了可靠的環(huán)境保障，讓長(zhǎng)時(shí)間的科研實(shí)驗(yàn)和精密制造得以順利進(jìn)行。采用節(jié)能技術(shù)，在保障高性能的同時(shí)降低能耗，為企業(yè)節(jié)省運(yùn)營(yíng)成本。光學(xué)恒溫恒濕控制

在芯片、半導(dǎo)體、精密加工、精密測(cè)量等領(lǐng)域，利用其溫濕度控制，保證生產(chǎn)環(huán)境的穩(wěn)定。光學(xué)恒溫恒濕控制

在半導(dǎo)體芯片制造這一復(fù)雜且精細(xì)的領(lǐng)域，從芯片光刻、蝕刻到沉積、封裝等每一步，都對(duì)環(huán)境條件有著近乎嚴(yán)苛的要求，而精密環(huán)控柜憑借其性能成為保障生產(chǎn)的關(guān)鍵要素。芯片光刻環(huán)節(jié)，光刻機(jī)對(duì)環(huán)境穩(wěn)定性要求極高。哪怕 0.002℃的溫度波動(dòng)，都可能使光刻機(jī)內(nèi)部的精密光學(xué)元件因熱脹冷縮產(chǎn)生細(xì)微形變，導(dǎo)致光路偏差，使光刻圖案精度受損。精密環(huán)控柜憑借超高精度溫度控制，將溫度波動(dòng)控制在極小范圍，確保光刻機(jī)高精度運(yùn)行，讓芯片光刻圖案正常呈現(xiàn)。光學(xué)恒溫恒濕控制