氦質(zhì)譜檢漏儀的主要性能指標(biāo)：1、可檢漏率：即氦質(zhì)譜檢漏儀所能檢出的漏孔的漏率。2、響應(yīng)(消除)時間：指一定流量的探索氣體進入氦質(zhì)譜檢漏儀后，電子和真空系統(tǒng)需要一定的響應(yīng)時間，漏率指示才能達到固定值；反之，停止供氣后，漏率指示不能立即回零，需要一定時間的下降過程，通常由于氦氣的吸附和脫附作用，消除時間稍長于響應(yīng)時間。3、啟動時間：指氦質(zhì)譜檢漏儀自接通電源到能進行檢漏的時間。氦質(zhì)譜檢漏儀以其高靈敏度和準(zhǔn)確性而通常應(yīng)用于整體防漏等級較高的壓力容器上。影響氦質(zhì)譜檢漏儀靈敏度的因素包括實際檢測條件、輔助真空系統(tǒng)以及操作人員的技術(shù)等多方面。氦質(zhì)譜檢漏儀的本底噪聲，一般指在2min內(nèi)輸出儀表的較大的波動量，能較方便地估計檢漏效果。分體式氦氣檢測設(shè)備生產(chǎn)廠家

氦檢儀是什么？氦檢儀是用氦氣為示漏氣體的專門用于檢漏的儀器，它具有性能穩(wěn)定、靈敏度高的特點。是真空檢漏技術(shù)中靈敏度較高，用得較普遍的氦檢儀器。氦檢儀是磁偏轉(zhuǎn)型的質(zhì)譜分析計。單級磁偏轉(zhuǎn)型儀器普遍地用于各種真空系統(tǒng)及零部件的檢漏。雙級串聯(lián)磁偏轉(zhuǎn)型儀器與單級磁偏轉(zhuǎn)型儀器相比較，本底噪聲明顯減小。適用于超高真空系統(tǒng)、零部件及元器件的檢漏。氦檢儀由離子源、分析器、收集器、冷陰極電離規(guī)組成的質(zhì)譜室和抽氣系統(tǒng)及電氣部分等組成。分體式氦氣檢測設(shè)備生產(chǎn)廠家氦質(zhì)譜檢漏儀的靈敏度可達10-12Pam3/s。

氦檢儀測量數(shù)據(jù)處理：漏率示值誤差，①漏率的溫度修正，標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率易受溫度變化影響，溫度對標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的影響一般為3%/℃ ，所以如果實際環(huán)境溫度和標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書中溫度不一致，需要將標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書中漏率和標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦檢儀示值修正至同一環(huán)境溫度下來計算，并在測試結(jié)果中加以說明，修正方法如下:方法一: 將標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書中的漏率修正至實際環(huán)境溫度下，用標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書中的漏率加上或減去溫度對標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的影響系數(shù)計算值；方法二: 將標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦檢儀示值平均值修正至標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書中環(huán)境溫度下，用標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦檢儀示值平均值加上或減去溫度對標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的影響系數(shù)計算值。

氦質(zhì)譜檢漏儀用氦氣或者氫氣作示漏氣體，以氣體分析儀檢測氦氣而進行檢漏的質(zhì)譜儀。氦氣的本底噪聲低，分子量及粘滯系數(shù)小，因而易通過漏孔并易擴散；另外，氦系惰性氣體，不腐蝕設(shè)備，故常用氦作示漏氣體。將這種氣體噴到接有氣體分析儀(調(diào)整到只對氦氣反應(yīng)的工作狀態(tài))的被檢容器上，若容器有漏孔，則分析儀即有所反應(yīng)，從而可知漏孔所在及漏氣量大小。氦質(zhì)譜檢漏儀可以對具有內(nèi)腔的微電子或半導(dǎo)體器件封裝的氣密性進行細檢漏。此檢測方法使用的示蹤氣體選擇了氦氣，氦氣具有質(zhì)量數(shù)小重量輕并且有滲透能力強的優(yōu)點，達到了細檢漏的目的。專業(yè)用于電廠檢漏的氦檢儀關(guān)鍵部件均為進口，性能穩(wěn)定可靠。

氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏注意事項：1、工件要保持清潔、干燥。2、對工件噴氦應(yīng)按以下順序進行：①從上往下。②從靠近測試口到遠離測試口。3、噴氦時應(yīng)經(jīng)常檢查噴口是否有氦氣噴出。4、檢完工件，必須將“節(jié)流閥”關(guān)閉，才能取工件。5、對同一工件，如有兩處以上漏點，應(yīng)排除Zda的漏點后，再對其它地方檢漏。6、裝工件時應(yīng)使連接處密封好，不能有漏。7、檢漏間應(yīng)通風(fēng)良好，避免氦氣濃度，但應(yīng)避免強通風(fēng)。8、氦氣屬貴重氣體，應(yīng)避免泄漏浪費。氦質(zhì)譜檢漏儀燈絲安裝時應(yīng)先將離子源內(nèi)的污漬用細砂紙打干凈，清洗后再裝。燈絲應(yīng)正對電離盒電子入口，盡量靠近電離盒，但不能短路，三根引線間也不能相互短路。氦質(zhì)譜檢漏儀是以氣體分析儀檢測氦氣而進行檢漏的質(zhì)譜儀。分體式氦氣檢測設(shè)備生產(chǎn)廠家

氦檢儀分子泵出現(xiàn)故障如何快速定位維修？分體式氦氣檢測設(shè)備生產(chǎn)廠家

氦質(zhì)譜檢漏儀的噪聲主要來源于電路噪聲和本底噪聲，目前設(shè)備電子線路和電子元件的改進，使得電路噪聲已經(jīng)降得很低，因此氦質(zhì)譜檢漏儀的本底噪聲成為影響設(shè)備性能的主要因素。而其本底噪聲的產(chǎn)生主要是由于本底峰的不穩(wěn)定造成的，主要形成的原因包括：一、離子源中的發(fā)射電流、加速電壓以及分析器的電磁參數(shù)不穩(wěn)定。二、真空油脂、橡膠材料、有機絕緣材料都可吸附和再釋放出氦氣，而電離規(guī)，特別是磁放電真空規(guī)對氦有記憶效應(yīng)，其表面污染時就更為嚴(yán)重。三、抽氣系統(tǒng)中抽速不穩(wěn)定和氦的反擴散。四、氦質(zhì)譜檢漏儀中空氣的本底影響。為盡量消除氦質(zhì)譜檢漏儀的本底噪聲，需要針對性的采取措施，如減少采用有機材料，不用磁放電規(guī)等。分體式氦氣檢測設(shè)備生產(chǎn)廠家

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