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正性光刻膠價(jià)格

來(lái)源： 發(fā)布時(shí)間：2025-04-24

光刻膠（Photoresist）是一種對(duì)光敏感的高分子材料，主要用于光刻工藝中，通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移，是半導(dǎo)體、集成電路（IC）、印刷電路板（PCB）、液晶顯示（LCD）等制造領(lǐng)域的材料之一。

光刻膠特性與組成

? 光敏性：在特定波長(zhǎng)（如紫外光、極紫外光EUV等）照射下，會(huì)發(fā)生化學(xué)結(jié)構(gòu)變化（如交聯(lián)或分解），從而改變?cè)陲@影液中的溶解性。

? 主要成分：

? 樹(shù)脂（成膜劑）：形成基礎(chǔ)膜層，決定光刻膠的機(jī)械和化學(xué)性能。

? 光敏劑：吸收光能并引發(fā)化學(xué)反應(yīng)（如光分解、光交聯(lián)）。

? 溶劑：調(diào)節(jié)粘度，便于涂覆成膜。

? 添加劑：改善性能（如感光度、分辨率、對(duì)比度等）。
PCB廠(chǎng)商必看！這款G-line光刻膠讓生產(chǎn)成本直降30%。正性光刻膠價(jià)格

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吉田半導(dǎo)體 JT-3001 厚板光刻膠：歐盟 RoHS 認(rèn)證，PCB 電路板制造

憑借抗深蝕刻性能與環(huán)保特性，吉田 JT-3001 厚板光刻膠成為 PCB 行業(yè)材料。
吉田半導(dǎo)體推出的 JT-3001 厚板光刻膠，分辨率達(dá) 1.5μm，抗深蝕刻速率 > 500nm/min，適用于高密度電路板制造。產(chǎn)品通過(guò)歐盟 RoHS 認(rèn)證，采用無(wú)鹵無(wú)鉛配方，符合環(huán)保要求。其優(yōu)異的感光度與留膜率，確保復(fù)雜線(xiàn)路圖形的成型，已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。公司提供從材料選型到工藝優(yōu)化的全流程支持，助力客戶(hù)提升生產(chǎn)效率與良率。
北京制版光刻膠國(guó)產(chǎn)廠(chǎng)商半導(dǎo)體材料選吉田，歐盟認(rèn)證，支持定制化解決方案!

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吉田半導(dǎo)體柯圖泰全系列感光膠：進(jìn)口品牌品質(zhì)，本地化服務(wù)支持

柯圖泰全系列感光膠依托進(jìn)口技術(shù)，提供高性?xún)r(jià)比的絲網(wǎng)印刷解決方案。
吉田半導(dǎo)體代理的柯圖泰全系列感光膠（如 PLUS 6000、Autosol 2000），源自美國(guó)先進(jìn)配方，分辨率達(dá) 120 線(xiàn) / 英寸，適用于玻璃、陶瓷等多種基材。產(chǎn)品通過(guò) SGS 認(rèn)證，符合電子行業(yè)有害物質(zhì)限制要求，其高感光度與耐摩擦性，確保絲網(wǎng)印刷的清晰度與耐久性。公司提供技術(shù)參數(shù)匹配、制版工藝指導(dǎo)等本地化服務(wù)，幫助客戶(hù)優(yōu)化生產(chǎn)流程，降低材料損耗。

  1. 產(chǎn)品特點(diǎn)：耐溶劑型優(yōu)良，抗潮耐水性好，耐印率高；固含量高，流平性好，涂布性能優(yōu)良；經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理，網(wǎng)版平滑、無(wú)白點(diǎn)、無(wú)沙眼、亮度高；剝膜性好，網(wǎng)版可再生使用；解像性、高架橋性好，易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線(xiàn)條；感光度高，曝光時(shí)間短，曝光寬容度大，節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時(shí)間，提高工作效率 。
  2. 應(yīng)用范圍：適用于塑料、皮革、標(biāo)牌、印刷電路板（PCB）、廣告宣傳、玻璃、陶瓷、紡織品等產(chǎn)品的印刷。例如在塑料表面形成牢固圖案，滿(mǎn)足皮革制品精細(xì)印刷需求，制作各類(lèi)標(biāo)牌保證圖案清晰，用于 PCB 制造滿(mǎn)足高精度要求等。
吉田半導(dǎo)體公司基本概況。

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技術(shù)優(yōu)勢(shì)：23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破

 全流程自主化能力
吉田在光刻膠研發(fā)中實(shí)現(xiàn)了從樹(shù)脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如，其納米壓印光刻膠通過(guò)自主開(kāi)發(fā)的樹(shù)脂體系，實(shí)現(xiàn)了3μm的分辨率，適用于MEMS傳感器、光學(xué)器件等領(lǐng)域。
技術(shù)壁壘：公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，掌握光刻膠主要原材料（如樹(shù)脂、光酸）的合成技術(shù)，部分原材料純度達(dá)PPT級(jí)。

 細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)先進(jìn)

? 納米壓印光刻膠：在納米級(jí)圖案化領(lǐng)域（如量子點(diǎn)顯示、生物芯片）實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破，分辨率達(dá)3μm，填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空缺。

? LCD光刻膠：針對(duì)顯示面板行業(yè)需求，開(kāi)發(fā)出高感光度、高對(duì)比度的光刻膠，適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術(shù)。

 研發(fā)投入與合作
公司2018年獲高新技術(shù)性企業(yè)認(rèn)證，與新材料領(lǐng)域同伴們合作開(kāi)發(fā)半導(dǎo)體光刻膠，計(jì)劃2025年啟動(dòng)半導(dǎo)體用KrF光刻膠研發(fā)。
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作為中國(guó)半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè)，吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終以自研自產(chǎn)為戰(zhàn)略，通過(guò) 23 年技術(shù)沉淀與持續(xù)創(chuàng)新，成功突破多項(xiàng) “卡脖子” 技術(shù)，構(gòu)建起從原材料到成品的全鏈條國(guó)產(chǎn)化能力。其自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品已覆蓋芯片制造、顯示面板、精密電子等領(lǐng)域，為國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供關(guān)鍵支撐。
吉田半導(dǎo)體依托自主研發(fā)中心與產(chǎn)學(xué)研合作，在光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)多項(xiàng)技術(shù)突破：
  • YK-300 正性光刻膠：分辨率達(dá) 0.35μm，線(xiàn)寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于 45nm 及以上制程，良率達(dá) 98% 以上，成本較進(jìn)口產(chǎn)品降低 40%，已通過(guò)中芯國(guó)際量產(chǎn)驗(yàn)證。
  • SU-3 負(fù)性光刻膠：支持 3μm 厚膜加工，抗深蝕刻速率 > 500nm/min，成功應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片封裝，良率提升至 98.5%。
  • JT-2000 納米壓印光刻膠：突破 250℃耐高溫極限，圖形保真度 > 95%，性能對(duì)標(biāo)德國(guó) MicroResist 系列，已應(yīng)用于國(guó)產(chǎn) EUV 光刻機(jī)前道工藝。
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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司是一家有著先進(jìn)的發(fā)展理念，先進(jìn)的管理經(jīng)驗(yàn)，在發(fā)展過(guò)程中不斷完善自己，要求自己，不斷創(chuàng)新，時(shí)刻準(zhǔn)備著迎接更多挑戰(zhàn)的活力公司，在廣東省等地區(qū)的電工電氣中匯聚了大量的人脈以及**，在業(yè)界也收獲了很多良好的評(píng)價(jià)，這些都源自于自身的努力和大家共同進(jìn)步的結(jié)果，這些評(píng)價(jià)對(duì)我們而言是比較好的前進(jìn)動(dòng)力，也促使我們?cè)谝院蟮牡缆飞媳３謯^發(fā)圖強(qiáng)、一往無(wú)前的進(jìn)取創(chuàng)新精神，努力把公司發(fā)展戰(zhàn)略推向一個(gè)新高度，在全體員工共同努力之下，全力拼搏將共同吉田半導(dǎo)體供應(yīng)和您一起攜手走向更好的未來(lái)，創(chuàng)造更有價(jià)值的產(chǎn)品，我們將以更好的狀態(tài)，更認(rèn)真的態(tài)度，更飽滿(mǎn)的精力去創(chuàng)造，去拼搏，去努力，讓我們一起更好更快的成長(zhǎng)！

標(biāo)簽： 光刻膠 錫片