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珠海制版光刻膠工廠

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-04-22

 上游原材料:

? 樹脂:彤程新材、鼎龍股份實(shí)現(xiàn)KrF/ArF光刻膠樹脂自主合成,金屬雜質(zhì)含量<5ppb(國際標(biāo)準(zhǔn)<10ppb)。

? 光引發(fā)劑:久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產(chǎn)酸劑,累計(jì)形成噸級(jí)訂單;威邁芯材合肥基地建成100噸/年ArF/KrF光刻膠主材料產(chǎn)線。

? 溶劑:怡達(dá)股份電子級(jí)PM溶劑全球市占率超40%,與南大光電合作開發(fā)配套溶劑,技術(shù)指標(biāo)達(dá)SEMI G5標(biāo)準(zhǔn)。

設(shè)備與驗(yàn)證:

? 上海新陽與上海微電子聯(lián)合開發(fā)光刻機(jī)適配參數(shù),驗(yàn)證周期較國際廠商縮短6個(gè)月;徐州博康實(shí)現(xiàn)“單體-樹脂-成品膠”全鏈條國產(chǎn)化,適配ASML Twinscan NXT系列光刻機(jī)。

? 國內(nèi)企業(yè)通過18-24個(gè)月的晶圓廠驗(yàn)證周期(如中芯國際、長(zhǎng)江存儲(chǔ)),一旦導(dǎo)入不易被替代。
吉田半導(dǎo)體全流程解決方案,賦能客戶提升生產(chǎn)效率。珠海制版光刻膠工廠

珠海制版光刻膠工廠,光刻膠

? 化學(xué)反應(yīng):

? 正性膠:曝光后光敏劑(如重氮醌DQN)分解,生成羧酸,在堿性顯影液中溶解;

? 負(fù)性膠:曝光后光敏劑引發(fā)交聯(lián)劑與樹脂形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。

5. 顯影(Development)

? 顯影液:

? 正性膠:堿性水溶液(如0.26N四甲基氫氧化銨TMAH),溶解曝光區(qū)域;

? 負(fù)性膠:有機(jī)溶劑(如二甲苯、醋酸丁酯),溶解未曝光區(qū)域。

? 方法:噴淋顯影(PCB)或沉浸式顯影(半導(dǎo)體),時(shí)間30秒-2分鐘,需控制顯影液濃度和溫度。

6. 后烘(Post-Bake)

? 目的:固化膠膜,提升耐蝕刻性和熱穩(wěn)定性。

? 條件:

? 溫度:100-150℃(半導(dǎo)體用正性膠可能更高,如180℃);

? 時(shí)間:15-60分鐘(厚膠或高耐蝕需求時(shí)延長(zhǎng))。

7. 蝕刻/離子注入(后續(xù)工藝)

? 蝕刻:以膠膜為掩膜,通過濕法(酸堿溶液)或干法(等離子體)刻蝕基板材料(如硅、金屬、玻璃);

? 離子注入:膠膜保護(hù)未曝光區(qū)域,使雜質(zhì)離子只能注入曝光區(qū)域(半導(dǎo)體摻雜工藝)。

8. 去膠(Strip)

? 方法:

? 濕法去膠:強(qiáng)氧化劑(如硫酸+雙氧水)或有機(jī)溶劑(如N-甲基吡咯烷酮NMP);

? 干法去膠:氧等離子體灰化(半導(dǎo)體領(lǐng)域,無殘留)。

四川水油光刻膠嚴(yán)苛光刻膠標(biāo)準(zhǔn)品質(zhì),吉田半導(dǎo)體綠色制造創(chuàng)新趨勢(shì)。

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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢(shì),適用于不同領(lǐng)域。

LCD 正性光刻膠 YK - 200:具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力的特點(diǎn),重量 100g。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,能確保 LCD 生產(chǎn)過程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和良好的涂布效果。

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300:具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g。主要用于半導(dǎo)體制造工藝,滿足半導(dǎo)體器件對(duì)光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。

耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100:重量 1L,具有耐腐蝕的特性,適用于在有腐蝕風(fēng)險(xiǎn)的光刻工藝中,比如一些特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造。

光刻膠的主要應(yīng)用領(lǐng)域

光刻膠是微電子制造的主要材料,廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域:

 半導(dǎo)體制造

? 功能:在晶圓表面形成微細(xì)電路圖案,作為蝕刻或離子注入的掩膜。

? 分類:

? 正性光刻膠:曝光區(qū)域溶解于顯影液,形成與掩膜版一致的圖案(主流,分辨率高)。

? 負(fù)性光刻膠:未曝光區(qū)域溶解,形成反向圖案(用于早期工藝,耐蝕刻性強(qiáng))。

? 技術(shù)演進(jìn):隨制程精度提升,需匹配不同曝光波長(zhǎng)(紫外UV、深紫外DUV、極紫外EUV),例如EUV光刻膠用于7nm以下制程。

 平板顯示(LCD/OLED)

? 彩色濾光片(CF):在玻璃基板上制作紅/綠/藍(lán)像素單元,光刻膠用于圖案化黑矩陣(BM)、彩色層(R/G/B)和保護(hù)層。

? 電極圖案:制作TFT-LCD的電極線路或OLED的陰極/陽極,需高透光率和精細(xì)邊緣控制。

 印刷電路板(PCB)

? 線路蝕刻:在覆銅板上涂膠,曝光顯影后保留線路區(qū)域,蝕刻去除未保護(hù)的銅箔,形成導(dǎo)電線路。

? 阻焊與字符層:阻焊膠覆蓋非線路區(qū)域,防止短路;字符膠用于印刷電路板標(biāo)識(shí)。

 LED與功率器件

? 芯片制造:在藍(lán)寶石/硅基板上制作電極和量子阱結(jié)構(gòu),需耐高功率環(huán)境的耐高溫光刻膠。

? Micro-LED:微米級(jí)芯片轉(zhuǎn)移和陣列化,依賴超高分辨率光刻膠(分辨率≤5μm)。

光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體,23 年研發(fā)經(jīng)驗(yàn),全自動(dòng)化生產(chǎn)保障品質(zhì)!

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 綠色制造與循環(huán)經(jīng)濟(jì)
公司采用水性光刻膠技術(shù),溶劑揮發(fā)量較傳統(tǒng)產(chǎn)品降低60%,符合歐盟REACH法規(guī)和國內(nèi)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。同時(shí),其光刻膠廢液回收項(xiàng)目已投產(chǎn),通過膜分離+精餾技術(shù)實(shí)現(xiàn)90%溶劑循環(huán)利用,年減排VOCs(揮發(fā)性有機(jī)物)超100噸。

 低碳供應(yīng)鏈管理
吉田半導(dǎo)體與上游供應(yīng)商合作開發(fā)生物基樹脂,部分產(chǎn)品采用可再生原料(如植物基丙烯酸酯),碳排放強(qiáng)度較傳統(tǒng)工藝降低30%。這一舉措使其在光伏電池和新能源汽車領(lǐng)域獲得客戶青睞,相關(guān)訂單占比從2022年的15%提升至2023年的25%。
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發(fā)展戰(zhàn)略與行業(yè)地位。珠海制版光刻膠工廠

厚板光刻膠

  • 電路板制造:在制作對(duì)線路精度和抗蝕刻性能要求高的電路板時(shí),厚板光刻膠可確保線路的精細(xì)度和穩(wěn)定性,比如汽車電子、工業(yè)控制等領(lǐng)域的電路板,能承受復(fù)雜環(huán)境和大電流、高電壓等工況。
  • 功率器件制造:像絕緣柵雙極晶體管(IGBT)這類功率器件,需要承受高電壓和大電流,厚板光刻膠可用于其芯片制造過程中的光刻環(huán)節(jié),保障芯片內(nèi)部電路的精細(xì)布局,提高器件的性能和可靠性。


負(fù)性光刻膠

  • 半導(dǎo)體制造:在芯片制造過程中,用于制作一些對(duì)精度要求高、圖形面積較大的結(jié)構(gòu),如芯片的金屬互連層、接觸孔等。通過負(fù)性光刻膠的曝光和顯影工藝,能實(shí)現(xiàn)精確的圖形轉(zhuǎn)移,確保芯片各部分之間的電氣連接正常。
  • 平板顯示制造:在液晶顯示器(LCD)和有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(OLED)的制造中,用于制作電極、像素等大面積圖案。以 LCD 為例,負(fù)性光刻膠可幫助形成液晶層與玻璃基板之間的電極圖案,控制液晶分子的排列,從而實(shí)現(xiàn)圖像顯示。


珠海制版光刻膠工廠

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司匯集了大量的優(yōu)秀人才,集企業(yè)奇思,創(chuàng)經(jīng)濟(jì)奇跡,一群有夢(mèng)想有朝氣的團(tuán)隊(duì)不斷在前進(jìn)的道路上開創(chuàng)新天地,繪畫新藍(lán)圖,在廣東省等地區(qū)的電工電氣中始終保持良好的信譽(yù),信奉著“爭(zhēng)取每一個(gè)客戶不容易,失去每一個(gè)用戶很簡(jiǎn)單”的理念,市場(chǎng)是企業(yè)的方向,質(zhì)量是企業(yè)的生命,在公司有效方針的領(lǐng)導(dǎo)下,全體上下,團(tuán)結(jié)一致,共同進(jìn)退,**協(xié)力把各方面工作做得更好,努力開創(chuàng)工作的新局面,公司的新高度,未來吉田半導(dǎo)體供應(yīng)和您一起奔向更美好的未來,即使現(xiàn)在有一點(diǎn)小小的成績(jī),也不足以驕傲,過去的種種都已成為昨日我們只有總結(jié)經(jīng)驗(yàn),才能繼續(xù)上路,讓我們一起點(diǎn)燃新的希望,放飛新的夢(mèng)想!

標(biāo)簽: 錫片 光刻膠