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無錫工業(yè)烤箱生產廠家

來源: 發(fā)布時間:2022-05-14

真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜主要應用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞,解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線,解決液晶的受潮問題,解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜。一、氮氣監(jiān)控系統(tǒng):1.1、2.3”LED大屏幕數(shù)字顯示濕度/溫度。1.2、溫濕度顯示值0.1%-99.9%RH,溫度顯示值0.1℃-60.0℃。1.3、溫濕度收集采準確傳感器,長距離傳輸無誤差。1.4、濕度控制:2.4.1利用濕度設定值來控制氮氣流入,到達濕度設定值即停止進氣,節(jié)省氮氣耗用。2.4.2濕度在1%-60%RH可調整。1.5、溫濕度記錄功能:2.5.1內建內存,可儲存溫度/濕度,收集時間1~240分鐘可自行設定。2.5.2可利用RS232連接阜下載至計算機中讀取。2.5.3品管記錄格式設計,有助于內部記錄追蹤并可支持數(shù)據(jù)庫檔案格式。1.6、濕度警報系統(tǒng):1.6.1可設定啟動警報的濕度值及條件,內配蜂鳴器(90分貝)及閃爍警示功能。1.6.2可另外選配積層式警示燈。1.7、溫濕度偏移校正功能:內建校正功能,確保顯示準確度。工業(yè)烤箱如何發(fā)揮重要作用?合肥真萍告訴您。無錫工業(yè)烤箱生產廠家

超高真空烘箱一、本產品廣泛應用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產單位。確定儀器儀表、電工產品、材料、零部件、設備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環(huán)境適應性與可靠性試驗.二、主要技術指標:1、工作室溫度范圍:常溫~+300℃用戶使用溫度260℃2、溫度波動度:1.0℃(空載);3、溫度偏差:常壓溫度試驗:常溫~200℃時2℃200~300℃時5.0℃低氣壓高溫綜合試驗:≤100℃時2.0℃,100℃~200℃時5.0℃200℃~300℃時7.0℃4、升降溫速率:升溫時間:①常壓時:90min(常溫~+260℃)②低氣壓0.0001pa時:180min(常溫~+260℃)降溫時間:3℃~10℃/min(260℃~120℃),1℃~5℃/min(120℃~常溫℃)降溫方式:水冷降溫5、試驗箱承壓方式:采用內承壓方式6、壓力范圍:常壓~0.0001Pa安徽工業(yè)烤箱圖片合肥真萍與您分享工業(yè)烤箱的重要性。

真空烤盤爐是與MOCVD設備配套使用的爐體,爐內抽真空,被處理工件放置在爐膛內,采用清洗氣體加熱反應方式進行干式清洗(清洗氣體:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂層石墨盤或石英盤)上的氮化鎵和氮化鋁等,可達到有效清潔處理,提高制品質量的目的。二、設計特點1、后門設計熱風電機2、降溫時風機開啟,同時兩端降溫封頭開啟,爐膛內產生如圖所示的氣體流向3、通過氣體介質將隔熱層內與水冷壁之間進行熱交換,達到快速降溫的目的三、技術指標1、使用溫度:1450℃;比較高溫度:1500℃;2、絕熱材料:石墨纖維毯、石墨紙;4、加熱元件:石墨加熱棒;5、冷卻方式:氣冷+循環(huán)風冷降溫;6、控溫穩(wěn)定度:2℃,具有PID參數(shù)自整定功能;7、爐膛溫度均勻度:5℃(恒溫1500℃);8、氣氛:可向爐膛內通入干燥、潔凈、無油的高純度氮氣,純度≥99.999%;9、極限真空:10-3torr級;10、抽氣速率:空載下,30min達到10-2torr11、升溫功率:170kW;12、升溫速率:15℃/min(空載);13、降溫速率:1450℃至80℃,240分鐘14、腔體尺寸:1000*1000*1000mm(寬*深*高)

一、本產品廣泛應用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產單位。確定儀器儀表、電工產品、材料、零部件、設備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環(huán)境適應性與可靠性試驗.二、主要技術指標:1、工作室溫度范圍:常溫~+300℃用戶使用溫度260℃2、溫度波動度:1.0℃(空載);3、溫度偏差:常壓溫度試驗:常溫~200℃時2℃200~300℃時5.0℃低氣壓高溫綜合試驗:≤100℃時2.0℃,100℃~200℃時5.0℃200℃~300℃時7.0℃4、升降溫速率:升溫時間:①常壓時:90min(常溫~+260℃)②低氣壓0.0001pa時:180min(常溫~+260℃)降溫時間:3℃~10℃/min(260℃~120℃),1℃~5℃/min(120℃~常溫℃)降溫方式:水冷降溫5、試驗箱承壓方式:采用內承壓方式6、壓力范圍:常壓~0.0001Pa工業(yè)烤箱哪家便宜?合肥真萍告訴您。

HMDS預處理系統(tǒng)的必要性:在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。  增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結合,起著偶聯(lián)劑的作用。工業(yè)烤箱常見的用途有哪些?合肥真萍告訴您。合肥工業(yè)烤箱保養(yǎng)

工業(yè)烤箱怎樣挑選比較好?無錫工業(yè)烤箱生產廠家

近年來采購競爭能力大幅度提高,成為全球精細化工產業(yè)極具活力、發(fā)展**快的市場。據(jù)統(tǒng)計,21世紀初期,歐美等發(fā)達地區(qū)的精細化工率已達到70%左右?;诩す獯驑思庸?,金屬切割,焊接設備制造,焊接設備銷售優(yōu)勢的相關多元化。是企業(yè)在已有產品的資源或者技術優(yōu)勢上進行的產品的相關多元化。相關多元化它可以是基于相關多元化產品擁有共同的上游原料,也可以是基于相同的技術優(yōu)勢。生產型中支出排名世界前列,研發(fā)模式也在發(fā)生改變:從以往由相關部門主導轉向由企業(yè)個體驅動、與相關部門研究機構和大學相互協(xié)作的良性生態(tài)系統(tǒng),研發(fā)模式更加以市場為導向,更強調效率和回報。同時,知識產權保護制度也得到加強。盡管在該領域仍有很長的路要走,但是不可否認從制度到觀念已經(jīng)取得了不小的進步。隨著消費升級和社會發(fā)展,化工產業(yè)中檔次低、成本高、效益差的低端產品市場不斷萎縮。能耗高、排放大、質量低的產品和服務加快被淘汰,**產品、差異化產品、綠色產品日益受到消費者青睞。無錫工業(yè)烤箱生產廠家

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