主要的考慮是此類工藝真的越來越少見了。雖然在EDI的使用說明方面，我們一般講進水電導率＜40μs/cm即可，但是在實際運行中一級RO產(chǎn)水電導率緩慢或意外變高，導致的EDI產(chǎn)水水質(zhì)不如預期（一般合理預期為1-5MΩ*cm），甚至損壞的情況時有發(fā)生。上述情況跟我前文說過的一級RO+二級EDI工藝的逐漸消失，本質(zhì)上是同一個原因---工藝設計太理想且高估了設備的日常運維水平。EDI進水水質(zhì)要求五、18M超純水工藝（工業(yè)級）18M超純水工藝圖（工業(yè)級）一級TOC脫除18M超純水工藝圖（工業(yè)級）二級TOC脫除工業(yè)級一般18M超純水工藝的幾個要點：①預處理階段一般建議同時配置軟水器和阻垢劑加*，及其他加*工藝以確定系統(tǒng)長期穩(wěn)定的運行。②EDI純水箱需要氮封或同等功能設計，且超純水會同步設置循環(huán)管路及水質(zhì)判定裝置，以確定終端用水的長期穩(wěn)定。③預處理階段如選用盤濾+UF工藝，可替代機械過濾工藝；在部分以自來水作為水源的工藝設計中甚至有用盤濾+UF替代機械過濾，同時省略活性炭過濾及軟化的工藝，個人持保留意見態(tài)度。④關于EDI+一級拋光系統(tǒng)是否能長期穩(wěn)定達到18MΩ*cm的終端產(chǎn)水水質(zhì)，及品牌之間存在的差距，請廠商及客戶自行判斷選擇。同時奉勸各位客戶，不要動不動就要求18M+。純水設備適用于家庭、辦公室等多種場合。蘇州專業(yè)純化水設備廠商

    純水，water應用在：IC行業(yè)清洗純水，OLED清洗超純水太陽能光伏用超純水設備，光電行業(yè)用超純水設備，半導體行業(yè)用超純水設備，單晶硅/多晶硅/硅材料/太陽能電池用工業(yè)超純水設備，LCD液晶顯示器純水設備，LED光學超純水設備，玻璃鍍膜配套超高純水設備，光學鏡片清洗用超純水設備，薄膜電池多晶鑄錠超純水設備,EDI電去離子，各行業(yè)用超純水處理設備。特點：在設備設計上，采用成熟、可靠、**、自動化程度高的兩級RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，全膜法處理工藝：UF+二級RO+EDI+拋光混床。確保處理后出水電阻率達到18MΩ.CM以上。保證產(chǎn)品質(zhì)量的需求！脫鹽水，應用在：熱電廠及大中型工礦企業(yè)鍋爐軟化水補給水處理設備，鍋爐軟化除鹽水設備，反滲透脫鹽水處理系統(tǒng)，熱力發(fā)電廠水汽循環(huán)系統(tǒng)，空調(diào)、冷庫等循環(huán)用冷卻循環(huán)水設備，其他工業(yè)循環(huán)用水處理設備。特點：采用世界上較**的反滲透膜元件，壓力容器等設備，配以合理而又有前處理和后處理設備，能生產(chǎn)出符合電力行業(yè)中,高壓鍋爐補給水標準的水?？刂葡到y(tǒng)采用工控機程控控制，可實現(xiàn)自動起停，加*及沖洗，自動監(jiān)測各種運行參數(shù)，以便生產(chǎn)管理。中水處理，應用：電鍍中水回用，電鍍廢水處理回用設備。工廠用純化水設備售價純水設備提供穩(wěn)定的水質(zhì)，滿足高標準要求。

水在實驗室中非常常見，從實驗器皿的清洗、漂洗，滅菌鍋等用水設備的加水，到緩沖液、標準品的制備或稀釋，再到分子生化/細胞實驗用水、高精密分析儀器如HPLC、IC-MS、GC-MS等，是無處不在的。水質(zhì)對于實驗結果的潛在影響卻很容易被忽視，因此，在使用純水機時，知道哪些“該做”、哪些“不該做”就顯得非常重要，這樣可以時刻提醒我們，正確的操作習慣可以保證好質(zhì)量的純水。比如：監(jiān)測您的水質(zhì)；“電阻率”和“TOC”（總可氧化碳）是純水水質(zhì)2個重要指標。電阻率用于監(jiān)測水中無機離子的情況，TOC用于監(jiān)測水中有機物的情況。超純水的電阻率值需達到18.2 MΩ·cm@25℃，TOC值需≤5 ppb（ug/L）。如超純水電阻率低于18.2 MΩ·cm，需警惕系統(tǒng)內(nèi)存在潛在的污染或者需要更換純化柱和終端過濾器、水箱過濾器。

超純水設備驅動核能產(chǎn)業(yè)的安全進程以及核能發(fā)電嚴謹精密，超純水設備是緊扣安全命脈。核反應堆冷卻系統(tǒng)，超純水在作為冷卻介質(zhì)，憑借其超高的純度和極低的雜質(zhì)，保障傳熱效率的同時，很好的規(guī)避水中雜質(zhì)在輻射下活化、腐蝕管道、污染堆芯。在核燃料后處理，超純水參與萃取、分離流程，防雜質(zhì)干擾放射性元素精細回收、凈化，降低核廢料放射性危害。設備穩(wěn)定運行是核電廠持續(xù)、安全發(fā)電基石，于核能和平利用、環(huán)境風險防控舉足輕重。純水設備采用全自動化設計，減少人為錯誤。

    考慮到循環(huán)回流的存在，個人建議將硼這個不穩(wěn)定因素控制在終端循環(huán)圈外，相關數(shù)據(jù)也更容易檢測判斷。④關于EDI及普通混床（MB)在半導體領域的應用，大型集成電路廠商還是習慣于MB工藝，此類工藝穩(wěn)定成熟且有整包廠商都有穩(wěn)定運營的經(jīng)驗。而在其他半導體（含光電等普通電子元器件）領域，EDI因為其占地面積小，運維相對簡單等優(yōu)勢，正在不斷擴大應用場景，且隨著特定的除硼樹脂或強陰樹脂的工藝彌補，對于硅硼去除率低的問題也在得到補足。⑤關于特定的HPRO工藝在半導體領域的應用，HPRO由于是在堿性條件下運行，確實對硼等弱酸性離子去除率較之一般RO高不少，但是比上他不如傳統(tǒng)2B3T穩(wěn)定，比下他較之一般RO在硬度（高pH更容易結垢）等方面更為敏感，且傳播范圍有限（在韓系半導體廠家中似乎有廣泛應用，國內(nèi)主流還是歐美派，傾向于全樹脂工藝）。⑥電子級/半導體級超純水設備往往對于儀器儀表及管路有特定的要求，無論是靈敏度還是穩(wěn)定性，兩者之間都存在不小差距，希望大家量力而行，當然成本差距也極其巨大。還是那句話，理性看待自己的真實需求，合理的需求---合理的預算---合格的產(chǎn)品，買家永遠沒有賣家精，切不可貪多求廉，世上沒那么多好事。六、純化水工藝。純水設備提供水質(zhì)在線監(jiān)測，確保安全。實驗室純水設備多少錢

純水設備的自動化操作，節(jié)省人力成本。蘇州專業(yè)純化水設備廠商

    也不知道是忙里偷閑還是閑得無聊，心血來潮想系統(tǒng)地整理一下常見的純水設備工藝流程圖。不整不知道，一整這東西就跟程序員寫代碼一樣，發(fā)現(xiàn)老代碼一堆BUG，很多本來覺得理所當然的東西，有時候其實真的沒那么必然。雖然自己一直在強調(diào)活學活用，但是難免思維固化，很多“搖擺”的東西也趁機溫習了一遍，所獲頗多，一起分享給大家。主要分享的內(nèi)容為一級反滲透、二級反滲透、一級反滲透+EDI、二級反滲透+EDI①+②、工業(yè)級18M超純水①+②、半導體級超純水①+②+③+④+⑤、醫(yī)療行業(yè)（二級反滲透、二級反滲透+EDI）一共7個主題的工藝流程圖，不求求全求滿，但求有所啟發(fā)。一、一級反滲透工藝一級反滲透工藝圖（工業(yè)級）（一）反滲透的基礎原理及吐槽反滲透純水設備是當下常見的純水設備，而一級反滲透工藝往往是各類復雜純水設備的工藝基礎，但是其實一級RO工藝的原理并不復雜，說白了就是RO膜的選擇性過濾，至于關于反滲透的基礎原理，可參見前文：反滲透基礎知識匯編（圖文版）。但是在實際應用場景中，不論是普通的一級反滲透設備，還是更復雜的多級反滲透乃至超純水設備，一級反滲透往往是問題發(fā)生的重災區(qū)，除了一級反滲透往往處于處理的道工序以外。蘇州專業(yè)純化水設備廠商