陶瓷氧化鋁球用途:1、陶瓷氧化鋁球被***的運用于不同類型的建筑陶瓷、特種陶瓷、瓷釉、坯料、玻璃、涂料、耐火材料、油漆、化工、非金屬礦等工廠的厚硬材質精加工和深加工,其中尤以92含量的高鋁球使用為普遍。2、陶瓷氧化鋁球是球磨機***研磨介質和填充料,用于球磨機...
氧化鋁瓷球指標項目單位指標化學成分指標備注吸水率%≥50Al2O3≥92%1、3-5mm白色球狀、條狀;孔容積ml/g≥0.46NaO0.2-1.0強度N/?!?0-752.、在水、堿液中不軟化、不粉碎。晶度主晶型r-Al2O3堆密度g/cm30.55-73氧...
氧化鋁瓷球是一種以Al2O3為主晶相的陶瓷材料,其氧化鋁含量一般在75%~99%之間。習慣上以配料中氧化鋁的含量進行分類,氧化鋁含量在75%左右的為”75瓷”,含量在99%的為“99瓷”等。剛玉莫來石瓷的氧化鋁含量在70%以上,剛玉瓷的氧化鋁含量在90%以上,...
惰性氧化鋁球的名稱解釋可以用一句話來概括:一種泥巴把它做成球的形狀后經過高達1200多度的溫度燒結成了瓷,它的化學元素主要成份是三氧化二鋁,它具有懶惰(穩(wěn)定)的化學性質,所以我們叫它惰性氧化鋁瓷球。使用范圍及作用從惰性氧化鋁瓷球問世以來就受到了廣大客戶的認可,...
陶瓷研磨球根據不同的氧化鋁含量,可以分為中鋁球、中高鋁球和高鋁球。高鋁球具有度、高硬度、高耐磨性,比重大、體積小、耐高溫、耐腐蝕、無污染等優(yōu)異特性,被***的運用于不同類型的陶瓷、瓷釉、玻璃、化工等等工廠的厚硬材質精加工和深加工,其中尤以92含量的高鋁球使用為...
惰性氧化鋁瓷球就是普通瓷球,作為反應中裝填催化劑層前后的隔離物使用。惰性氧化鋁球是惰性的,不會與物料發(fā)生反應,起保護作用。惰性瓷球具有強度高、高化學穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性的特性,惰性瓷球可以耐高溫、壓和酸、堿、鹽及各種溶劑的腐蝕,惰性瓷球大量應用于石油、化工、化...
氧化鋁瓷球的主要性能 氧化鋁瓷球的主晶相是剛玉(Al2O3)晶相,它在配方中的含量高低對氧化鋁瓷球的性能產生非常大的影響。Al2O3含量高,氧化鋁瓷球的燒成溫度也高,隨著Al2O3含量的增加,陶瓷的機械強度也隨之提高。Al2O3含量對其電性能有著非常大的影響...
常用的粉碎工藝有球磨粉碎、振磨粉碎、砂磨粉碎、氣流粉碎等等。通過機械粉碎方法來提高粉料的比表面積,盡管是有效的,但有一定限度,通常只能使粉料的平均粒徑小至1μm左右或更細一點,而且有粒徑分布范圍較寬,容易帶入雜質的缺點?;瘜W法近年來,采用濕化學法制造超細...
結構陶瓷主要是指發(fā)揮其機械、熱、化學等性能的一大類新型陶瓷材料,它可以在許多苛刻的工作環(huán)境下服役,因而成為許多新興科學技術得以實現(xiàn)的關鍵。光通信產業(yè)光通信產業(yè)是當前世界上發(fā)展為迅速的高技術產業(yè)之一,全世界產值已超過30億美元。其所以發(fā)展如此迅速主要依賴于光纖損...
陶瓷配件,是指用特種陶瓷材料經過混料、成型、燒結、加工工序制成的機械零部件。這里所提到的特種陶瓷材料可以是氧化物陶瓷、氮化物陶瓷、硼化物陶瓷、碳化物陶瓷等。特種陶瓷材料作為一種無機非金屬材料,具有諸多金屬材料所不具備的性能,如:強度高、高硬度、高彈性模量、耐高...
常用的粉碎工藝有球磨粉碎、振磨粉碎、砂磨粉碎、氣流粉碎等等。通過機械粉碎方法來提高粉料的比表面積,盡管是有效的,但有一定限度,通常只能使粉料的平均粒徑小至1μm左右或更細一點,而且有粒徑分布范圍較寬,容易帶入雜質的缺點?;瘜W法近年來,采用濕化學法制造超細...
電子陶瓷、照明陶瓷和耐磨陶瓷(又稱氧化鋁陶瓷):滑石瓷、七五瓷、八五瓷、九五瓷、九六瓷、九九瓷、高純度瓷;可制作基片、基板、瓷殼、瓷座、瓷圈、瓷環(huán)、瓷棒、瓷眼、管座、電路外殼、火花塞、絕緣套、耐磨閥片、耐磨機械蝸芯、汽車電路各處接線絕緣陶瓷等等。氧化鋯陶瓷:九...
氧化鋯陶瓷的生產要求制備高純、分散性能好、粒子超細、粒度分布窄的粉體,氧化鋯超細粉末的制備方法很多,氧化鋯的提純主要有氯化和熱分解法、堿金屬氧化分解法、石灰熔融法、等離子弧法、沉淀法、膠體法、水解法、噴霧熱解法等。粉體加工方法有共沉淀法、溶膠一凝膠法、蒸發(fā)法、...
氧化鋁陶瓷是一種以氧化鋁(AL2O3)為主體的材料,用于厚膜集成電路。氧化鋁陶瓷有較好的傳導性、機械強度和耐高溫性。需要注意的是需用超聲波進行洗滌。氧化鋁陶瓷是一種用途很廣的陶瓷。因為氧化鋁陶瓷優(yōu)越的性能,在現(xiàn)代社會的應用已經越來越多,滿足于日用和特殊性能的需...
就在不久前,出于降低水泥生產粉磨能耗的目的,“無球化”一度成為業(yè)內關注的重要方向,國內也先后投入近百條水泥粉磨生產線推廣立磨終粉磨,鑒于目前這種水泥”兩磨“過程中的高能耗,很多水泥企業(yè)在不斷尋找新的替代品,能夠降低企業(yè)的能耗、降低企業(yè)的運營成本、提...
很顯然使用氧化鋁陶瓷球的優(yōu)勢更加明顯。在現(xiàn)有干法水泥粉磨系統(tǒng)使用陶瓷球,主要是調整球磨機內的研磨體及其工藝參數,如研磨體種類、裝載量、級配、填充率等。在保證研磨倉入料粒度要求的前提下,原水泥粉磨系統(tǒng)其他配套設備基本不動。無論是閉路系統(tǒng),還是開路系統(tǒng),調整...
氧化鋁陶瓷是一種以氧化鋁(AL2O3)為主體的材料,用于厚膜集成電路。氧化鋁陶瓷有較好的傳導性、機械強度和耐高溫性。需要注意的是需用超聲波進行洗滌。氧化鋁陶瓷是一種用途***的陶瓷。因為氧化鋁陶瓷優(yōu)越的性能,在現(xiàn)代社會的應用已經越來越***,滿足于...
氧化鋯陶瓷閥門目前,我國各個行業(yè)中普遍使用的閥門是金屬閥門,金屬閥門的使用也有100多年的歷史,期間雖然也經歷過材料及結構的改變,但由于受金屬材料自身的限制,金屬的腐蝕破壞對閥門耐磨性的作用期限、可靠性、使用壽命具有相當大的影響,機械和腐蝕的作用因素對金屬的...
HTCC又稱為高溫共燒多層陶瓷,生產制造過程與LTCC極為相似,主要的差異點在于HTCC的陶瓷粉末并無玻璃材質,因此,HTCC必須在高溫1200~1600°C環(huán)境下干燥硬化成生胚,接著同樣鉆上導通孔,以網版印刷技術填孔于印制線路,因其共燒溫度較高,使得金屬導體...
氧化鋁陶瓷結構件作為先進陶瓷中應用的一種材料,被大范圍利用,下面我們一起看一下關于它的發(fā)展趨勢吧。技術裝備水平將快速提高:計算機技術和數字化控制技術的發(fā)展促進了先進陶瓷材料工業(yè)的技術進步和快速發(fā)展,諸如自動控制連續(xù)燒結窯爐、大功率大容量研磨設備、高性能制粉造粒...
目前生產高純氧化鋁的方法主要包括多重結晶法(包括硫酸鋁銨熱解法和碳酸鋁銨熱解法)、醇鹽水解法、直接水解法(膽堿法)和改良拜耳法等。國內只有少數企業(yè)擁有改良拜耳法、醇鋁鹽水解法和水熱合成法的生產工藝。日本企業(yè)掌握著高純氧化鋁的生產工藝,代表性企業(yè)日本...
純ZrO2為白色,含雜質時呈黃色或灰色,一般含有HfO2,不易分離。世界上已探明的鋯資源約為1900萬噸,氧化鋯通常是由鋯礦石提純制得。在常壓下純ZrO2共有三種晶態(tài):單斜(Monoclinic)氧化鋯(m-ZrO2)、四方(Tetragonal)...
陶瓷氧化鋯磨球95氧化鋯珠-砂磨機氧化鋯磨珠陶瓷氧化鋯球別名:鋯珠,氧化鋯珠,氧化鋯陶瓷珠,氧化鋯陶瓷微珠,釔穩(wěn)定氧化鋯陶瓷微珠95氧化鋯珠應用領域:氧化鋯珠采用高品位的釔穩(wěn)定氧化鋯粉,具有**度,**磨耗及高研磨效率性能,產品各項性能指標已達到國際先進水平。...
陶瓷氧化鋯磨球95氧化鋯珠-砂磨機氧化鋯磨珠陶瓷氧化鋯球別名:鋯珠,氧化鋯珠,氧化鋯陶瓷珠,氧化鋯陶瓷微珠,釔穩(wěn)定氧化鋯陶瓷微珠95氧化鋯珠應用領域:氧化鋯珠采用高品位的釔穩(wěn)定氧化鋯粉,具有較強度,較低磨耗及高研磨效率性能,產品各項性能指標已達到國際先進水平。...
陶瓷基板產品簡介:本產品是由貴金屬所構成的高傳導介質電路與高熱傳導系數絕緣材料結合而成的高熱傳導基板。可又效解決PCB與鋁基板低導熱的問題。達到有效將高熱電子元件所產生的熱導出,增加元件穩(wěn)定度度及延長使用壽命。產品特性:不需要變更原加工程序***機械強度具良好...
隨著下游新能源汽車、充電樁、光伏、5G基站等領域的爆發(fā),了對第三代半導體——碳化硅材料襯底、外延與器件方面的巨大市場需求,國內眾多企業(yè)紛紛通過加強技術研發(fā)與資本投入布局碳化硅產業(yè),我們首先來探討一下碳化硅襯底的國產化進程。碳化硅分為立方相(閃鋅礦結構)、六方相...
碳化硅(SiC)是第三代化合物半導體材料。半導體產業(yè)的基石是芯片,制作芯片的材料按照歷史進程分為:代半導體材料(大部分為目前使用的高純度硅),第二代化合物半導體材料(砷化鎵、磷化銦),第三代化合物半導體材料(碳化硅、氮化鎵)。碳化硅因其優(yōu)越的物理性...
為提高生產效率并降低成本,大尺寸是碳化硅襯備技術的重要發(fā)展方向。襯底尺寸越大,單位襯底可制造的芯片數量越多,單位芯片成本越低。襯底的尺寸越大,邊緣的浪費就越小,有利于進一步降低芯片的成本。在半絕緣型碳化硅市場,目前主流的襯底產品規(guī)格為4英寸。在導電型碳化硅市場...
隨著全球電子信息及太陽能光伏產業(yè)對硅晶片需求量的快速增長,硅晶片線切割用碳化硅微粉的需求量也正在迅速增加。以碳化硅(SiC)及GaN為**的寬禁帶材料,是繼Si和GaAs之后的第三代半導體。與Si及GaAs相比,SiC具有寬禁帶、高熱導率、高擊穿場強、...
以碳化硅為的第三代半導體材料,被譽為繼硅材料之后有前景的半導體材料之一,與硅材料相比,以碳化硅晶片為襯造的半導體器件具備高功率、耐高壓/高溫、高頻、低能耗、抗輻射能力強等優(yōu)點,可廣泛應用于半導體功率器件和5G通訊等領域。按照襯底電學性能的不同,碳化...