鋯和鉿金相制備純鋯和鉿是一種軟的易延展的六方密排晶格結構的金屬,過度的研磨和切割過程中容易生成機械孿晶。同其它難熔金屬一樣,研磨和拋光速率較低,去除全部的拋光劃痕和變形非常困難。甚至在鑲嵌壓力下產(chǎn)生孿晶,兩相都有硬顆粒導致浮雕很難控制。為了提高偏振光敏感度,通常在機械拋光后增加化學拋光。為選擇,侵蝕拋光劑可以加到終拋光混合液里,或者增加震動拋光。四步制備程序,其后可以加上化學拋光或震動拋光。有幾種侵蝕拋光劑可以用于鋯和鉿,其中一種是1-2份的雙氧水與(30%濃度–避免身體接觸)8或9份的硅膠混合。另一種是5mL三氧化鉻溶液(20gCrO3,100mL水)添加95mL硅膠或氧化鋁懸浮...
鎳的金相制樣制鎳和鎳合金是面心立方晶格結構,制備方法基本上和奧氏體不銹鋼一樣。純鎳比鎳合金要難制備。Ni-Fe磁性合金,要制備無劃痕的表面非常困難,除非采用震動拋光。Monel(Ni-Cu)合金和高抗蝕(Ni-Cr-Fe)合金要比鎳基高溫合金難制備多了。固溶退火鎳基高溫合金要比沉淀硬化鎳基高溫合金難制備。下面介紹的制備程序非常適合于鎳基高溫合金(Fe-Ni基高溫合金)和高抗蝕Ni-Cr-Fe合金,對純鎳、Ni-Cu和Ni-Fe合金,建議使用五步制備程序,如下所述。用240(P280)或320(P400)粒度的SiC砂紙,具體通常,對這些合金,不用侵蝕拋光劑消除拋光劃痕或殘留缺陷。如...
硅對硅膠的化學機械拋光反應良好,但與氧化鋁的反應較差。實例證明,氧化鋁懸浮液可以用于終的拋光,這就又返回到以前提到的試樣制備理論了。氧化鋁懸浮液運用示例:當硅模與鉛框材料,例如鍍鎳的銅,鉛框和模具材料被制備時。此時,我們不用考慮硅的表面光潔度,相反我們要確保鎳沒有出現(xiàn)掛灰以利于辨別鉛框材料當制備硅設備以檢查金屬化和薄膜電路時,制備技術應與前面講的一樣。需要再次重申的是,終拋光劑應根據(jù)要檢查的目的選擇。例如,鋁電路與硅膠的化學機械拋光反應良好,但鋁電路周圍的鈦-鎢與硅膠的化學機械拋光反應就較差。因此,硅膠導致難熔金屬出現(xiàn)浮雕從而影響拋光的質(zhì)量。如果出現(xiàn)倒圓,那將使界面分析變得非常困難...
研磨拋光液是不同于固結磨具,涂附磨具的另一類“磨具”,磨料在分散劑中均勻、游離分布。研磨拋光液可分為研磨液和拋光液。一般研磨液用于粗磨,拋光液用于精密磨削。拋光液通常用于研磨液的下道工序,行業(yè)中也把拋光液稱為研磨液或把研磨液稱為拋光液的。金相拋光液有不同于普通拋光液金相拋光液與研磨液都是平面研磨設備上經(jīng)常會用到的一種消耗品。它們在平面研磨機上作用的原理相同,但是所達到的效果卻大有不同。這是由于這兩種液體在使用上和本身成分上都存在一定差異。拋光分分為機械拋光、電解拋光、化學拋光,各有各的優(yōu)勢,各有各的用途,選擇合適的就能少走彎路。拋光液的主要產(chǎn)品可以按主要成分的不同分為以下幾大類:金剛石拋光液(...