微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，晶圓輸送閥Transfer Valve，傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。I型輸送閥，-閘門動作時無震動或沖擊-通過饋通波紋管Feedthrough bellows防止閥體污染，確保高耐用性-采用LM導軌和單鏈路（LM-guide&Single Link）結構/小齒輪驅動方式，使其具有簡單的運動、耐用性和高精度。I型輸送閥有爪式（Jaw type）和夾式（Clamp type）。微泰晶圓輸送閥Transfer Valve，傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。正確安裝、定期維護以及遵守制造商指南對于這些閥門的性能發(fā)揮和使用壽命至關重要。Diffusion閘閥角控制閥

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，有氣動多位置閘閥（氣動多定位閘閥、多定位插板閥、Pneumatic Multi Position）、氣動（鎖定）閘閥和手動（鎖定）閘閥，蝶閥，Butterfly Valve，步進電機插板閥Stepper Motor Gate Valve，加熱插板閥（加熱閘閥Heating gate valve），鋁閘閥（AL Gate Valve），三重防護閘閥，應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。Diffusion閘閥角控制閥用真空閘閥時，應考慮與工藝氣體的兼容性、工作壓力范圍、循環(huán)速度和維護要求等因素。

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，蝶閥，Butterfly Valve產(chǎn)品范圍：DN40 ~ 50 -壓力控制-使用步進電機- Product Range : DN40 ~ 50- Pressure Controlled- Using Stepper Motor，- Compatible with VAT Butterfly Control Valve, series61.2 - Application Process : PVD, CVD, Etching, Diffusion-使用步進電機和控制器執(zhí)行驅動。-通過步進電機/控制器精確定位，確保精確的壓力控制。-兼容VAT蝶閥控制器，系列61.2，-應用工藝： PVD，CVD，蝕刻，擴散。微泰蝶閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。

微泰半導體閘閥具有諸多特點：首先，它已向中國臺灣的 Micron、UMC、AKT 等，新加坡的 Micron、Global Foundries，馬來西亞的英菲尼亞半導體，日本的 Micron、三星半導體等眾多設備廠批量供貨，且品質得到認可，同時完成了對半導體 Utility 設備和批量生產(chǎn)設備的驗證。其次，該閘閥采用陶瓷球機構，具有良好的抗沖擊和震動性能，保證可使用 25 萬次，且檢修方便，維護成本較低。它無 Particle 產(chǎn)生，采用陶瓷球不會有腐蝕和顆粒產(chǎn)生。此外，它還具有屏蔽保護功能，閘閥閥體與擋板之間的距離小于 1mm，能有效防止粉末侵入閥內，壽命為半永久性。其保護環(huán)設計也很獨特，Protecrion Ring 通過流速上升設計防止粉末凝固，并通過打磨（研磨）工藝防止粉末堆積。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）、CVD（化學氣相沉積）等設備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁榱吮苊庠陬w粒敏感應用中產(chǎn)生顆粒，滑動閘門機構的設計旨在避免閥殼處的摩擦。

微泰半導體閘閥與其他類型閘閥相比，具有以下一些優(yōu)勢：1. 高精度控制：能更精確地調節(jié)流體流量。2. 適應半導體環(huán)境：對溫度、真空等條件有更好的適應性。3. 低顆粒產(chǎn)生：減少對晶圓等的污染。4. 長壽命和可靠性：確保穩(wěn)定運行，減少維護成本。5. 多功能應用：可適用于多種半導體工藝設備。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）、CVD（化學氣相沉積）等設備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁＿@些真空閥可以手動、氣動或電子方式驅動，從而可以根據(jù)具體應用進行多功能控制。高壓閘閥手動閥

微泰閘閥可替代HVA閘閥、VAT閘閥。Diffusion閘閥角控制閥

微泰半導體閘閥的特點，首先介紹一下起三重保護的保護環(huán)機能，采用鋁質材料減少重量，并提高保護環(huán)的內部粗糙度，防止工程副產(chǎn)物堆積黏附。提升保護環(huán)內部流速設計，保護環(huán)逐步收窄，提升流速，防止粉塵黏附。采用三元系O型圈，保證保護環(huán)驅動穩(wěn)定（保證30萬次驅動）。微泰半導體閘閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上?？商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰尽iffusion閘閥角控制閥