微泰半導體閘閥具有諸多特點:首先,它已向中國臺灣的 Micron、UMC、AKT 等,新加坡的 Micron、Global Foundries,馬來西亞的英菲尼亞半導體,日本的 Micron、三星半導體等眾多設備廠批量供貨,且品質得到認可,同時完成了對半導體 Utility 設備和批量生產設備的驗證。其次,該閘閥采用陶瓷球機構,具有良好的抗沖擊和震動性能,保證可使用 25 萬次,且檢修方便,維護成本較低。它無 Particle 產生,采用陶瓷球不會有腐蝕和顆粒產生。此外,它還具有屏蔽保護功能,閘閥閥體與擋板之間的距離小于 1mm,能有效防止粉末侵入閥內,壽命為半永久性。其保護環(huán)設計也很獨特,Protecrion Ring 通過流速上升設計防止粉末凝固,并通過打磨(研磨)工藝防止粉末堆積。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁?。閘閥的結構長度(系殼體兩連接端面之間的距離)較小。多位閘閥HV GATE VALVE
微泰,傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它充當將位于工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的溝槽。I型和L型轉移閥是用于半導體PVD CVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它們的作用是將位于工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的溝槽,并極大限度地減少由于閘板打開和關閉造成的真空壓力變化,以維持腔室內的真空壓力。I型轉移閥由鋁或不銹鋼制成,用于傳輸晶圓小于450毫米的半導體系統(tǒng)和隔離工藝室。其特點是葉片在垂直方向上快速移動,以確保完美的腔室壓力維持。而L型轉移閥也由鋁或不銹鋼制造,其特點是設計緊湊,易于維護。L型轉移閥的閘門在兩個階段從垂直到水平方向移動,以確保完美的腔室壓力維護。這兩種類型的轉移閥都具有高耐用性和長壽命的優(yōu)點,并且在閘門開啟和關閉過程中極大限度地減少了振動,對溫度變化也非常穩(wěn)定,以確保較長的使用壽命。如果您需要了解更多關于微泰傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥的信息,請聯(lián)系上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。多位閘閥HV GATE VALVE當真空閥打開時,閘門移出流路,使氣體以高電導率通過。
半導體主加工設備腔內精確壓力控制的解決方案,真空插板閥品牌—微泰??刂葡到y(tǒng)閥門是安裝在半導體? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備中的主要閥門??刂葡到y(tǒng)閥門起到調節(jié)腔內壓力的作用,通過控制系統(tǒng)自動調節(jié)閘板的開啟和關閉。精確控制腔內壓力的閥門分為三類:控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥。控制系統(tǒng)和蝶閥使用步進電機操作,而多定位閘閥、多位置閘閥使用氣動控制操作。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。
微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,控制系統(tǒng)閘閥,控制閘閥、控制系統(tǒng)插板閥、控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,可以在高真空環(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制。如半導體等高真空工藝應用。控制系統(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁?。微泰控制系統(tǒng)閥門是安裝在半導體CVD設備中的主要閥門。控制系統(tǒng)閥門起到調節(jié)腔內壓力的作用。
微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,氣動多位置閘閥,氣動多定位閘閥,多定位插板閥,Pneumatic Multi Position 其特點是1,全開和關閉位置使用帶有位置發(fā)射器的氣動電磁閥進行控制;2,所有位置控制都由控制器進行操作。1)控制類型-全開:高速閘門全開操作-全閉:高速閘門全閉操作-位置(POS.)控制:將閘門移動到設定的位置值;2)操作時間-完全打開?完全關閉:<2秒(取決于速度控制器設置)-位置(POS。)控制: 0%?100%工作,<MAX18秒(偏差: < ±0.5%)。微泰氣動多位置閘閥,氣動多定位閘閥,多定位插板閥,Pneumatic Multi Position,有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。精確控制腔內壓力的閥門分為三類:控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥。濺射閘閥UMC
閘閥高度大,啟閉時間長。閘板的啟閉行程較大,升降是通過螺桿進行的。多位閘閥HV GATE VALVE
微泰,三重防護閘閥、三防閘閥,應用于? Evaporation? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD? 涂層? Etch? Diffusion?CVD(化學氣相沉積)等設備上。可替代VAT閘閥。微泰三重防護閘閥、三防閘閥其特點是? 閥門控制器(1CH ~ 4CH)? 應用:半導體生產線中粉末和氣體等副產品的處理,防止回流。三重防護閘閥、三防閘閥規(guī)格如下:操作:氣動、法蘭尺寸(內徑) 2.5? ~ 10?、法蘭類型ISO,KF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型環(huán)/Kalrez O型環(huán)、閥蓋密封:Viton O型圈、響應時間:≤ 0.3 sec ~ 0.6 sec、操作壓力范圍: 1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 8? ~ 10? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar、閘門上的壓差; 1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 10? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10-10 mbar ?/sec、維護前可用次數(shù):200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰尽6辔婚l閥HV GATE VALVE