1.類(lèi)金剛石(Diamond-likeCarbon,DLC)薄膜是碳以sp3和sp2雜化鍵結(jié)合形成的一種亞穩(wěn)態(tài)非晶材料,具有高硬度、高耐磨性、良好的透明性和生物相容性等獨(dú)特的性質(zhì)。采用不同的工藝方法制備的DLC薄膜具有不同的微觀結(jié)構(gòu)和性質(zhì)。特別地,作為光學(xué)材料,DLC薄膜具有較寬的禁帶寬度和較低的折射率,且折射率可在一定范圍內(nèi)調(diào)控。

2. 利用DLC來(lái)制備晶體硅表面的減反射膜,用于提高太陽(yáng)能電池的光電轉(zhuǎn)化效率。使用磁控濺射沉積設(shè)備在單晶硅基體上制備了系列DLC薄膜,薄膜的折射率和與sp3含量有關(guān),sp3含量越高,折射率越高。改變工藝參數(shù),DLC薄膜的折射率可在1.64～2.18之間變化。DLC薄膜消光系數(shù)與DLC薄膜中sp2相的含量有關(guān)。sp2含量越高,消光系數(shù)越高。

3. 甲烷濃度對(duì)DLC薄膜光學(xué)性質(zhì)的影響,隨著甲烷濃度的增加,DLC薄膜的透射率呈現(xiàn)逐漸減少的趨勢(shì)。當(dāng)甲烷濃度在5SCCM以下時(shí),薄膜的透光性比較好，在硅基底上添加多層DLC薄膜能夠?qū)崿F(xiàn)在可見(jiàn)光區(qū)的多波段減反射效果。在玻璃基底上添加DLC薄膜能夠?qū)崿F(xiàn)在可見(jiàn)光區(qū)的多波段增透效果。 DLC膜表面一般較光潔，對(duì)基材的表面光潔度沒(méi)有太大的影響，但隨著膜厚的增加，表面光潔度會(huì)下降。河北耐磨DLC供應(yīng)商

1.氮化鈦(TiN)具有典型的NaCl型結(jié)構(gòu)，屬面心立方點(diǎn)陣，晶格常數(shù)a=0.4241nm，其中鈦原子位于面心立方的角頂。TiN是非化學(xué)計(jì)量化合物其穩(wěn)定的組成范圍為T(mén)iN0.37-TiN1.16，氮的含量可以在一定的范圍內(nèi)變化而不引起TiN結(jié)構(gòu)的變化。TiN粉末一般呈黃褐色超細(xì)TiN粉末呈黑色，而TiN晶體呈金黃色。TiN熔點(diǎn)為2950℃，密度為5.43-5.44g/cm3，莫氏硬度8-9，抗熱沖擊性好。氫化鈦的理化性質(zhì)由氫元素的含量來(lái)決定，當(dāng)氨元素含量減少時(shí)氮化鈦的晶格參數(shù)反而增大，硬度也會(huì)有顯微的增大，但氮化鈦的抗震性隨之降低。TiN熔點(diǎn)比大多數(shù)過(guò)渡金屬氮化物的熔點(diǎn)高，而密度卻比大多數(shù)金屬氨化物低，因此是一種很有特色的耐熱材料。臺(tái)州納米DLC供應(yīng)商DLC涂層適用于極端磨損情況和高相對(duì)速度，甚至是在無(wú)潤(rùn)滑運(yùn)轉(zhuǎn)的條件下使用。

DLC涂層簡(jiǎn)介

DLC涂層在在刀具上的應(yīng)用，采用涂層技術(shù)可有效提高切削刀具使用壽命，使刀具獲得優(yōu)良的綜合機(jī)械性能，從而大幅度提高機(jī)械加工效率。DLC涂層是工業(yè)領(lǐng)域常用涂層之一，是一種由碳元素構(gòu)成、在性質(zhì)上和鉆石類(lèi)似，同時(shí)又具有石墨原子組成結(jié)構(gòu)的涂層物質(zhì)。

類(lèi)金剛石（DLC）涂層是一種非晶態(tài)薄膜，具有高硬度和高彈性模量、低摩擦因數(shù)、耐磨損以及良好的真空摩擦特性，因此通常作為耐磨涂層使用。

DLC涂層可以使用各種薄膜沉積技術(shù)生產(chǎn)，包括物物物理相沉積 (PVD) ，等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 (PECVD) ，離子束輔助沉積 (IBAD) ，陰極電弧沉積 (CAD) 和脈沖激光沉積 (PLD) 。所有這些過(guò)程的共同點(diǎn)是真空環(huán)境，其中高能預(yù)處理碳原子在與基板表面接觸時(shí)會(huì)迅速冷卻。

類(lèi)金剛石涂層是一種與金剛石涂層性能相似的新型薄膜材料,它具有較高的硬度,良好的熱傳導(dǎo)率,極低的摩擦系數(shù),優(yōu)異的電絕緣性能,高的化學(xué)穩(wěn)定性及紅外透光性能.類(lèi)金剛石涂層作為質(zhì)量硬質(zhì)涂層的材料,在不同領(lǐng)域展現(xiàn)了適合的應(yīng)用前景,國(guó)內(nèi)外對(duì)它的研究一直是熱點(diǎn)問(wèn)題,然而由于涂層過(guò)程和摩擦磨損過(guò)程影響因素眾多,對(duì)于涂層疲勞磨損作用機(jī)理和失效機(jī)理的研究目前還遠(yuǎn)遠(yuǎn)不夠.本文以等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法在45鋼基體表面上噴涂類(lèi)金剛石涂層,與45淬火鋼組成圓盤(pán)滾滑摩擦副,在M-2000型磨損試驗(yàn)機(jī)上進(jìn)行了全接觸,水平往復(fù)運(yùn)動(dòng),垂直運(yùn)動(dòng)三種不同工況下的疲勞磨損試驗(yàn)研究,并根據(jù)試驗(yàn)數(shù)據(jù)和現(xiàn)象對(duì)不同工況下類(lèi)金剛石涂層的摩擦磨損性能和疲勞磨損機(jī)理進(jìn)行了系統(tǒng)而細(xì)致的研究. 

DLC在各種刀片如剪刀、刮胡刀等上的應(yīng)用。DLC減小了刀片與 皮膚的摩擦，改善了刀片的性能，延長(zhǎng)了使用壽命。

1. 類(lèi)金剛石碳膜（Diamond-like carbon films，簡(jiǎn)稱(chēng)DLC膜）作為新型的硬質(zhì)薄膜材料具有一系列優(yōu)異的性能，如高硬度、高耐磨性、高熱導(dǎo)率、高電阻率、良好的光學(xué)透明性、化學(xué)惰性等，可較為用于機(jī)械、電子、光學(xué)、熱學(xué)、聲學(xué)、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，具有良好的應(yīng)用前景。我們開(kāi)發(fā)了等離子體-離子束源增強(qiáng)沉積系統(tǒng)，并同過(guò)該系統(tǒng)中的磁過(guò)濾真空陰極弧和非平衡磁控濺射來(lái)進(jìn)行DLC膜的開(kāi)發(fā)。該項(xiàng)技術(shù)較為用于電子、裝飾、宇航、機(jī)械和信息等領(lǐng)域，用于摩擦、光學(xué)功能等用途。我國(guó)技術(shù)正處于發(fā)展和完善階段，有巨大市場(chǎng)潛力。DLC膜有可能在許多摩擦學(xué)領(lǐng)域替代這些傳統(tǒng)硬膜。摻金屬DLC有抗摩擦磨損性能及低達(dá)0.13-0.15的摩擦系數(shù)。鎮(zhèn)江納米DLC生產(chǎn)企業(yè)

涂以DLC的沖壓模具主要應(yīng)用包括：石墨切削，各種有色金屬切削，非金屬硬質(zhì)材料切削等。河北耐磨DLC供應(yīng)商

分析CrN過(guò)渡層與不同膜厚對(duì)DLC薄膜性能的影響,及涂層模具的成型特性。方法采用PECVD方法在718合金試樣及模具表面沉積Cr N/DLC復(fù)合膜,預(yù)設(shè)Cr N過(guò)渡層厚度為0.2μm,DLC膜層厚度為0.5～1.2μm。采用無(wú)損設(shè)備對(duì)不同沉積時(shí)間(10、15、20、25、30、35 min)的薄膜厚度進(jìn)行表征,并使用掃描電子顯微鏡(SEM)觀察薄膜表面及截面結(jié)構(gòu)特征。采用拉曼光譜(Raman)分析不同厚度DLC膜的峰位信息以及sp3-C/sp2-C的比例關(guān)系,用納米壓痕儀表征膜層硬度,用硬度計(jì)分析膜/基結(jié)合力,用輪廓儀表征薄膜表面特征,并探討膜厚對(duì)薄膜性能的影響機(jī)制。結(jié)果薄膜的厚度值在預(yù)設(shè)范圍以內(nèi),該方法制備的薄膜結(jié)構(gòu)致密,表面光滑,無(wú)分層、凹坑、液滴粘附等缺陷。隨涂層厚度的增加,薄膜中sp3-C/sp2-C的比例呈先減小后增大的趨勢(shì),G峰也先向D峰靠近,而后遠(yuǎn)離。薄膜硬度同樣隨膜層厚度的增加呈先增加后減小的趨勢(shì),1.06μm厚的Cr N/DLC膜的硬度比較高(3600HV)。薄膜的結(jié)合力等級(jí)比較高可以達(dá)到工業(yè)級(jí)的HF2。表面輪廓無(wú)較大量動(dòng),表面粗糙度Ra比較低可達(dá)0.011μm。1.06μm CrN/DLC涂層模具的成型壽命是未涂層模具的3倍以上。結(jié)論對(duì)橡膠模具而言,適當(dāng)厚度的DLC微/納涂層處理可以起到一定的減磨、抗腐蝕效果,降低模具本體表面潤(rùn)濕性。河北耐磨DLC供應(yīng)商

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