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研究所膜厚儀推薦產(chǎn)品

來源: 發(fā)布時間:2021-07-31

F10-RT同時測量反射和透射以真空鍍膜為設(shè)計目標,F(xiàn)10-RT 只要單擊鼠標即可獲得反射和透射光譜。 只需傳統(tǒng)價格的一小部分,用戶就能進行比較低/比較高 分析、確定 FWHM 并進行顏色分析。

可選的厚度和折射率模塊讓您能夠充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。測量結(jié)果能被快速地導(dǎo)出和打印。

包含的內(nèi)容:集成光譜儀/光源裝置FILMeasure 8 軟件BK7 參考材料Al2O3 參考材料Si 參考材料防反光板鏡頭紙

額外的好處:每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫, 隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助(周一 - 周五)網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃 測量方式: 紅外干涉(非接觸式)。研究所膜厚儀推薦產(chǎn)品

鏡頭組件Filmetrics 提供幾十種不同鏡頭配置。訂制專門用途 的鏡片一般在幾天之內(nèi)可以完成。

LA-GL25-25-30-EXR用于 60-1000mm 工作距離的直徑 1" 鏡頭組件,30mm 焦距鏡頭。KM-GL25用于直徑 1" 鏡頭的簡化動力支架。 可以在兩個軸上斜向調(diào)節(jié)。 8-32 安裝螺紋。KM-F50用于直徑 0.5" 鏡頭的簡化動力支架。 還可以用于 F50??商峁┎煌溺R頭組合。LA-F50/SS-13-20-UVX小光斑 (200um) 選項,可見光, 近紅外或紫外線。

如果您想要了解更多的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器。 福建膜厚儀優(yōu)惠價格紫外光可測試的深度:***的薄膜(SOI 或 Si-SiGe)或者厚樣的近表面局部應(yīng)力。

硬涂層厚度測量Filmetrics 系統(tǒng)在汽車和航空工業(yè)得到廣泛應(yīng)用,用于測量硬涂層和其他保護性薄膜的厚度。F10-HC 是為彎曲表面和多層薄膜 (例如, 底涂/硬涂層) 而專門設(shè)計的。

汽車前燈在汽車前燈組件的制造中需要進行多點測量,因為涂層厚度對于品質(zhì)至關(guān)重要。 外側(cè)硬涂層和聚碳酸酯鏡頭內(nèi)側(cè)的防霧層以及反射器上的涂層的厚度都是很重要的。 這些用途中的每一項是特殊的挑戰(zhàn),而 Filmetrics 已經(jīng)開發(fā)出軟件、硬件和應(yīng)用知識以便為用戶提供正確的解決方案。

測量范例帶HC選項的F10-AR收集測量厚度的反射率信息。這款儀器采用光學(xué)接觸探頭,它的設(shè)計降低了背面反射。接觸探頭安置在亞克力表明。FILMeature軟件自動分析收集的光譜信息,給出涂層厚度。在這個例子中,亞克力板上還有一層與硬涂層折射率非常近似的底漆。

    其可測量薄膜厚度在1nm到1mm之間,測量精度高達1埃,測量穩(wěn)定性高達,測量時間只需一到二秒,并有手動及自動機型可選。可應(yīng)用領(lǐng)域包括:生物醫(yī)學(xué)(Biomedical),液晶顯示(Displays),硬涂層(Hardcoats),金屬膜(Metal),眼鏡涂層(Ophthalmic),聚對二甲笨(Parylene),電路板(PCBs&PWBs),多孔硅(PorousSilicon),光阻材料(ThickResist),半導(dǎo)體材料(Semiconductors),太陽光伏(Solarphotovoltaics),真空鍍層(VacuumCoatings),圈筒檢查(Webinspectionapplications)等。通過Filmetrics膜厚測量儀*新反射式光譜測量技術(shù),*多4層透明薄膜厚度、n、k值及粗糙度能在數(shù)秒鐘測得。其應(yīng)用***,例如:半導(dǎo)體工業(yè):光阻、氧化物、氮化物。LCD工業(yè):間距(cellgaps),ito電極、polyimide保護膜。光電鍍膜應(yīng)用:硬化鍍膜、抗反射鍍膜、過濾片。極易操作、快速、準確、機身輕巧及價格便宜為其主要優(yōu)點,F(xiàn)ilmetrics提供以下型號以供選擇:F20:這簡單入門型號有三種不同波長選擇(由220nm紫外線區(qū)至1700nm近紅外線區(qū))為任意攜帶型,可以實現(xiàn)反射、膜厚、n、k值測量。F30:這型號可安裝在任何真空鍍膜機腔體外的窗口。可實時監(jiān)控長晶速度、實時提供膜厚、n、k值。并可切定某一波長或固定測量時間間距??蛇x粗糙度: 20 — 1000? (RMS)。

非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在, 在兩級之間是部分結(jié)晶硅。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅。


非晶硅和多晶硅的光學(xué)常數(shù)(n和k)對不同沉積條件是獨特的,必須有精確的厚度測量。 測量厚度時還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風(fēng)化。

Filmetrics 設(shè)備提供的復(fù)雜的測量程序同時測量和輸出每個要求的硅薄膜參數(shù), 并且“一鍵”出結(jié)果。

測量范例多晶硅被***用于以硅為基礎(chǔ)的電子設(shè)備中。這些設(shè)備的效率取決于薄膜的光學(xué)和結(jié)構(gòu)特性。隨著沉積和退火條件的改變,這些特性隨之改變,所以準確地測量這些參數(shù)非常重要。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間,加入二氧化硅層,以增加光學(xué)對比,其薄膜厚度和光學(xué)特性均可測得。F20可以很容易地測量多晶硅薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù),以及二氧化硅夾層厚度。Bruggeman光學(xué)模型被用來測量多晶硅薄膜光學(xué)特性。


F50-EXR測厚范圍:20nm-250μm;波長:380-1700nm。Filmetrics F10-RT膜厚儀原產(chǎn)地

測量厚度: 15 — 780 μm (單探頭) ; 3 mm (雙探頭總厚度測量)。研究所膜厚儀推薦產(chǎn)品

測量有機發(fā)光顯示器有機發(fā)光顯示器 (OLEDs)有機發(fā)光顯示器正迅速從實驗室轉(zhuǎn)向大規(guī)模生產(chǎn)。明亮,超薄,動態(tài)的特性使它們成為從手機到電視顯示屏的優(yōu)先。組成顯示屏的多層薄膜的精密測量非常重要,但不能用傳統(tǒng)接觸型的輪廓儀,因為它會破壞顯示屏表面。我們的F20-UV,F(xiàn)40-UV,和F10-RT-UV將提供廉價,可靠,非侵入測量原型裝置和全像素化顯示屏。我們的光譜儀還可以測量大氣敏感材料的化學(xué)變化。

測量透明導(dǎo)電氧化膜不論是銦錫氧化物,氧化鋅,還是聚合物(3,4-乙烯基),我們獨有的ITO光學(xué)模型,加上可見/近紅外儀器,可以測得厚度和光學(xué)常數(shù),費用和操作難度*是光譜橢偏儀的一小部分。 研究所膜厚儀推薦產(chǎn)品

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司致力于儀器儀表,是一家其他型公司。公司業(yè)務(wù)分為磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)等,目前不斷進行創(chuàng)新和服務(wù)改進,為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司將不斷增強企業(yè)重點競爭力,努力學(xué)習(xí)行業(yè)知識,遵守行業(yè)規(guī)范,植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實”的經(jīng)營理念,全力打造公司的重點競爭力。