全自動金相切割機的切割精度與穩(wěn)定性分析-全自動金相切割機
全自動顯微維氏硬度計在電子元器件檢測中的重要作用
全自動顯微維氏硬度計:提高材料質(zhì)量評估的關(guān)鍵工具
全自動維氏硬度計對現(xiàn)代制造業(yè)的影響?-全自動維氏硬度計
跨越傳統(tǒng)界限:全自動顯微維氏硬度計在復合材料檢測中的應用探索
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全自動維氏硬度計在我國市場的發(fā)展現(xiàn)狀及展望-全自動維氏硬度計
小知識——光電倍增管(PMT)光電倍增管(Photomultiplier,簡稱PMT),是一種對紫外光、可見光和近紅外光極其敏感的特殊真空管。它能使進入的微弱光信號增強至原本的108倍,使光信號能被測量。小知識——光電二極管(APD)光電二極管是由玻璃封裝的真空裝置,其內(nèi)包含光電陰極(photocathode),幾個二次發(fā)射極(dynode)和一個陽極。入射光子撞擊光電陰極,產(chǎn)生光電效應,產(chǎn)生的光電子被聚焦到二次發(fā)射極。其后的工作原理如同電子倍增管,電子被加速到二次發(fā)射極產(chǎn)生多個二次電子,通常每個二次發(fā)射極的電位差在100到200伏特。二次電子流像瀑布一般,經(jīng)過一連串的二次發(fā)射極使得電子倍增,然后到達陽極。一般光電倍增管的二次發(fā)射極是分離式的,而電子倍增管的二次發(fā)射極是連續(xù)式的。APD外置了一個大功率激光發(fā)生器模塊,在非常短的時間內(nèi)就能檢測分析納米級顆粒的分布情況。如何zeta電位及納米粒度儀使用方式
小知識——光電倍增管(PMT)光電倍增管(Photomultiplier,簡稱PMT),是一種對紫外光、可見光和近紅外光極其敏感的特殊真空管。它能使進入的微弱光信號增強至原本的108倍,使光信號能被測量。小知識——光電二極管(APD)光電二極管是由玻璃封裝的真空裝置,其內(nèi)包含光電陰極(photocathode),幾個二次發(fā)射極(dynode)和一個陽極。入射光子撞擊光電陰極,產(chǎn)生光電效應,產(chǎn)生的光電子被聚焦到二次發(fā)射極。其后的工作原理如同電子倍增管,電子被加速到二次發(fā)射極產(chǎn)生多個二次電子,通常每個二次發(fā)射極的電位差在100到200伏特。二次電子流像瀑布一般,經(jīng)過一連串的二次發(fā)射極使得電子倍增,然后到達陽極。一般光電倍增管的二次發(fā)射極是分離式的,而電子倍增管的二次發(fā)射極是連續(xù)式的。質(zhì)量zeta電位及納米粒度儀聯(lián)系人Nicomp多峰分布優(yōu)勢 Nicomp系列儀器均可以自由在Gaussian分布模式和Nicomp多峰分布模式中切換。
動態(tài)光散射理論: 粒子的擴散效應:懸浮的粒子并不是靜止不動的,相反,他們以布朗運動(Brownianmotion)的方式無規(guī)則的運動,布朗運動主要是由于臨近的溶劑分子沖撞而引起的。因此,到達PMT檢測區(qū)的每一束散射光隨時間也呈無規(guī)則波動,這是由于產(chǎn)生散射光的粒子的位置不同而導致的無規(guī)則波動。因為這些光互相干涉在一起,在檢測器中檢測到的光強值就會隨時間而不斷波動。粒子很小的位移需要在相位上產(chǎn)生很大的變化,進而產(chǎn)生有實際意義的波動,于是這些波動在凈光強值上反應出來。 DLS測量粒徑技術(shù)的關(guān)鍵物理概念是基于粒子的波動時間周期是隨著粒子的粒徑大小而變化的。為了簡化這個概念,我們現(xiàn)在假定粒子是均一大小的,具有相同的擴散系數(shù)(diffusion coefficient)。分散體系中的小粒子運動的快,將會導致光強波動信號變化很快;而相反地,大粒子擴散地畢竟慢,導致了光強值的變化比較慢。
Nicomp380系列納米激光粒度儀專為復雜體系提供高精度粒度解析方案。工作原理:粒度分布:動態(tài)光散射儀(DynamicLightScattering,DLS)/ZETA電位:多普勒電泳光散射原理(DopplerElectrophoreticLightScattering,DELS);檢測范圍:粒徑范圍0.3nm-10.0μm/ZETA電位+/-500mV;Nicomp380Z3000系列納米激光粒度儀是在原有的經(jīng)典型號380ZLS&S基礎(chǔ)上升級配套而來,采用動態(tài)光散射(DynamicLightScattering,DLS)原理檢測分析顆粒的粒度分布,同機采用多普勒電泳光散射原理(DopplerElectrophoreticLightScattering,DELS)檢測ZETA電位。粒徑檢測范圍0.3nm–10μm,ZETA電位檢測范圍為+/-500mV。其配套粒度分析軟件復合采用了高斯(Gaussian)單峰算法的Nicomp多峰算法,對于多組分、粒徑分布不均勻分散體系的分析具有獨特優(yōu)勢。ZETA電位模塊使用雙列直插式方形樣品池和鈀電極,一個電極可以使用成千上萬次。另外,采用可變電場適應不同的樣品檢測需求。既保證檢測精度,亦幫用戶節(jié)省檢測成本。且無需培訓,測試結(jié)果重現(xiàn)性好,誤差率<1%。
產(chǎn)品優(yōu)勢:一、模塊化設(shè)計:Nicomp380納米激光粒度儀是全球率先在應用動態(tài)光散射技術(shù)上的基礎(chǔ)上加入多模塊方法的先進粒度儀。隨著模塊的升級和增加,Nicomp380的功能體系越來越強大,可以用于各種復雜體系的檢測分析。 二、自動稀釋模塊(選配):自動稀釋模塊消除了人工稀釋高濃度樣品帶來的誤差,且不需要人工不斷試錯來獲得合適的測試濃度,這縮短了測試者寶貴時間,且無需培訓,測試結(jié)果重現(xiàn)性好,誤差率<1%。三、380/HPLD大功率激光器:美國PSS粒度儀公司在開發(fā)儀器的過程中,考慮到在各種極端實驗測試條件中不同的需求,對不同使用條件和環(huán)境配置了不同功率的激光發(fā)生器。大功率的激光器可以對極小的粒子也能搜集到足夠的散射信號,使得儀器能夠得到極小粒子的粒徑分布。同樣,大功率激光器在測試大粒子的時候同樣也很有幫助,比如在檢測右旋糖酐大分子時,折射率的特性會引起光散射強度不足。因為大功率激光器的特性,會彌補散射光強的不足和衰減,測試極其微小的微乳、表面活性劑膠束、蛋白質(zhì)以及其他大分子不再是一個苛刻的難題。即使沒有色譜分離,Nicomp380納米粒徑分析儀甚至也可以輕易估算出生物高分子的聚集程度。粒徑檢測范圍 0.3nm – 10μm,ZETA電位檢測范圍為+/- 500mV。如何zeta電位及納米粒度儀使用方式
五、380/MA多角度檢測器(選配) 粒徑大于100 nm的顆粒在激光的照射下不會朝著各個方向散射。如何zeta電位及納米粒度儀使用方式
Nicomp380系列納米激光粒度儀專為復雜體系提供高精度粒度解析方案。工作原理:粒度分布:動態(tài)光散射儀(Dynamic Light Scattering,DLS)/ZETA電位:多普勒電泳光散射原理(Doppler ElectrophoreticLightScattering,DELS);檢測范圍:粒徑范圍0.3nm-10.0μm/ZETA電位+/-500mV;Nicomp380Z3000系列納米激光粒度儀是在原有的經(jīng)典型號380ZLS&S基礎(chǔ)上升級配套而來,采用動態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering,DLS)原理檢測分析顆粒的粒度分布,同機采用多普勒電泳光散射原理(Doppler Electrophoretic Light Scattering,DELS)檢測ZETA電位。粒徑檢測范圍0.3nm–10μm,ZETA電位檢測范圍為+/-500mV。其配套粒度分析軟件復合采用了高斯(Gaussian)單峰算法的Nicomp多峰算法,對于多組分、粒徑分布不均勻分散體系的分析具有獨特優(yōu)勢。ZETA電位模塊使用雙列直插式方形樣品池和鈀電極,一個電極可以使用成千上萬次。另外,采用可變電場適應不同的樣品檢測需求。既保證檢測精度,亦幫用戶節(jié)省檢測成本。如何zeta電位及納米粒度儀使用方式